[发明专利]各向异性纹理过滤

权利要求书

1.一种执行各向异性纹理过滤的方法(1200)，所述方法(1200)包括：

生成描述纹理空间中的椭圆形覆盖区的一个或多个参数(1202)；

在待采样椭圆中的一组采样点中的每个采样点处执行各向同性过滤，以产生多个各向同性过滤器结果，所述待采样椭圆基于所述椭圆形覆盖区(1204,1206)；

基于所述采样点组的一个或多个参数和所述待采样椭圆的一个或多个参数，选择各向异性过滤器的权重，所述权重在所述各向异性过滤器的方差与各向异性比率的平方相关的约束下，使得对所述各向异性过滤器的过滤器响应中的高频率进行罚分的代价函数最小化，所述各向异性比率是所述待采样椭圆的长半径与所述待采样椭圆的短半径的比率(1208)；以及

使用所述各向异性过滤器的所选择权重来组合所述多个各向同性过滤器结果，以生成过滤器结果的至少一部分(1210)。

2.如权利要求1所述的方法(1200)，其中所述各向异性过滤器能够被表示为第一函数的绝对值平方，并且所述代价函数是所述第一函数的模平方空间方差和光谱方差的乘积。

3.如权利要求2所述的方法(1200)，其中所述代价函数是其中η是所述各向异性比率，φ(x)是所述第一函数，φ′(x)是φ(x)相对于x的导数，并且x表示纹理空间中相对于所述椭圆形覆盖区的长轴的中点的位置。

4.如权利要求2所述的方法(1200)，其中所述代价函数是S是所述采样点组，φ是所述第一函数并且

5.如权利要求1所述的方法(1200)，其中所述代价函数是表示所述各向异性过滤器的欧几里得范数的函数。

6.如权利要求5所述的方法(1200)，其中所述各向异性过滤器能够被表示为第一函数φ(x)的绝对值平方，所述代价函数是并且x表示纹理空间中相对于所述椭圆形覆盖区的所述长轴的中点的位置。

7.如权利要求5所述的方法(1200)，其中所述各向异性过滤器能够被表示为第一函数φ的绝对值平方，并且所述代价函数是∑_n∈S|φ_n|⁴，其中S是所述采样点组并且

8.如权利要求1所述的方法(1200)，其中所述代价函数是表示所述各向异性过滤器的光谱扩展的函数。

9.如权利要求8所述的方法(1200)，其中所述各向异性过滤器能够被表示为第一函数φ(x)的绝对值平方，所述代价函数是φ′(x)是φ(x)相对于x的导数，并且x表示纹理空间中相对于所述椭圆形覆盖区的所述长轴的中点的位置。

10.如权利要求8所述的方法(1200)，其中所述各向异性过滤器能够被表示为第一函数φ的绝对值平方，所述代价函数是S是所述采样点组并且

11.如权利要求1至10中任一项所述的方法(1200)，其中所述采样点组的所述采样点沿所述椭圆形覆盖区的长轴定位。

12.如权利要求1至10中任一项所述的方法(1200)，其中所述待采样椭圆的所述一个或多个参数包括所述待采样椭圆的所述各向异性比率。

13.如权利要求1至10中任一项所述的方法(1200)，其中所述采样点组的所述一个或多个参数包括所述采样点组中的采样点的数目、第一采样点从所述椭圆形覆盖区的所述长半径的中间点的偏移量，以及所述纹理空间中所述采样点组中的相邻采样点之间的间距。