[发明专利]一种钾离子选择性薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种钾离子选择性薄膜的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

S1：制备功能化氧化石墨烯薄膜

将氧化石墨烯粉末和二甲基二甲氧基硅烷液体加入去离子水中，加热搅拌至完全分散，停止搅拌并将溶液冷却至室温形成胶体溶液，并取一定量的胶体溶液滴加在多孔基底聚对苯二甲酸乙二醇酯膜上，自然风干得到功能化氧化石墨烯薄膜；

S2：制备负载K⁺功能化氧化石墨烯薄膜

将干燥后的功能化氧化石墨烯薄膜放入0.1～0.5M的KCl溶液中，室温下吸附10～24h后取出，并用离子水冲洗功能化氧化石墨烯薄膜表面多余的离子溶液，随后用氮气吹干，制备成负载K⁺功能化氧化石墨烯薄膜，即钾离子选择性薄膜。

2.如权利要求1所述的一种钾离子选择性薄膜的制备方法，其特征在于：步骤S1中，采用以下质量比的原料：氧化石墨烯:二甲基二甲氧基硅烷:去离子水＝7:250～350:2000。

3.如权利要求1所述的一种钾离子选择性薄膜的制备方法，其特征在于：步骤S1中，加热温度为100～110℃，转速为350～500r/min；磁力搅拌反应5～7h。

4.如权利要求1所述的一种钾离子选择性薄膜的制备方法，其特征在于：多孔基底聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的孔径为30nm。

5.一种采用权利要求1-4任一项所述的制备方法制备的钾离子选择性薄膜。