[发明专利]发声装置和终端设备

权利要求书

1.一种发声装置，其特征在于，所述发声装置包括：

盆架，所述盆架设有容腔；

磁路系统，所述磁路系统包括设于所述容腔内的U铁和内磁路部分，所述U铁具有容置槽，所述内磁路部分设于所述容置槽内，并与所述容置槽的侧壁间隔以形成磁间隙，所述内磁路部分面向所述磁间隙的一侧设有缺口槽；及

振动系统，所述振动系统包括振膜和连接于所述振膜的音圈，所述振膜连接于所述盆架，并与所述磁路系统相对，所述音圈远离所述振膜的一端悬设于所述磁间隙内；

其中，定义所述缺口槽沿所述磁间隙轴线方向的长度为a，定义所述缺口槽沿垂直于所述磁间隙轴线方向的长度为b；其中，1.8≤a/b≤2.2。

2.根据权利要求1所述的发声装置，其特征在于，所述内磁路部分包括层叠设置的内磁铁和内华司，所述内磁铁夹设于所述内华司和所述容置槽的底壁之间，所述内华司面向所述磁间隙的一侧设有所述缺口槽，所述内华司背向所述内磁铁的一侧设有凹陷槽。

3.根据权利要求2所述的发声装置，其特征在于，所述凹陷槽的内壁包括相连接的凸弧面和凹弧面，所述凸弧面远离所述凹弧面的一侧与所述内华司的外侧壁连接。

4.根据权利要求3所述的发声装置，其特征在于，定义所述凸弧面与所述内华司的外侧壁的连接处至所述缺口槽的距离为d1，定义所述内华司的最大厚度为d2；

其中，0.5≤d1/d2≤0.7。

5.根据权利要求4所述的发声装置，其特征在于，定义所述凸弧面和所述凹弧面的连接处与所述凸弧面和所述内华司的外侧壁的连接处的垂直距离为d3；其中，d3/d1＜1/2；

且/或，定义所述内华司的最小厚度为d4，其中，d4＞d1/10。

6.根据权利要求3所述的发声装置，其特征在于，定义所述凸弧面的半径为R1，定义所述凹弧面的半径为R2；其中，5.5mm≤R1≤6.5mm，3.5≤R1/R2≤4.5；

且/或，定义所述凸弧面的弧长为L1，定义所述凹弧面的弧长为L2，其中，2.5≤L2/L1≤5。

7.根据权利要求2所述的发声装置，其特征在于，所述盆架设有连通所述容腔的贯通孔，所述U铁对应所述贯通孔设有贯穿所述容置槽底壁的第一通孔，所述内磁铁对应所述第一通孔设有第二通孔，所述内华司对应所述第二通孔设有第三通孔，所述第三通孔贯穿所述凹陷槽的底壁。

8.根据权利要求2所述的发声装置，其特征在于，所述容置槽的底壁朝向所述容置槽内凸起形成支撑台，所述支撑台与所述容置槽的侧壁间隔以围合形成避位槽，所述避位槽与所述磁间隙对应连通，所述内磁铁支撑于所述支撑台，所述U铁背向所述容置槽底壁的一侧对应所述支撑台凹陷形成凹槽；

且/或，所述缺口槽沿所述内华司的周缘延伸设置；

且/或，所述缺口槽邻近所述内磁铁设置。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的发声装置，其特征在于，所述振动系统还包括定心环，所述定心环的内侧与所述音圈的外壁连接，所述容腔的内壁设有固定台，所述定心环的外侧与所述固定台连接。

10.一种终端设备，其特征在于，包括设备壳体和如权利要求1至9中任一项所述的发声装置，所述发声装置设于所述设备壳体。