[发明专利]一种抗氧化的铜纳米线透明电极及其制备方法和应用在审
申请号: | 202210906888.X | 申请日: | 2022-07-29 |
公开(公告)号: | CN115376757A | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 梁先文;程魁富;赵涛;赖志强;刘丹;孙蓉 | 申请(专利权)人: | 深圳先进电子材料国际创新研究院 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B5/14 |
代理公司: | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人: | 孟洁 |
地址: | 518100 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化 纳米 透明 电极 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种抗氧化的铜纳米线透明电极的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:取液相法制备得到的铜纳米线原液,采用非极性有机溶剂清洗并离心分离,将得到的铜纳米线溶于无水乙醇中得到铜纳米线分散液;
S2:用去离子水稀释步骤S1得到的铜纳米线分散液,并超声处理;
S3:在步骤S2得到的溶液中加入有机酸溶液,同时超声处理,除去铜纳米线表面的包覆剂;
S4:对步骤S3得到的溶液进行滤膜抽滤纯化,随后将铜纳米线重新溶解于无水乙醇中;
S5:重复一遍步骤S2中的稀释和步骤S4中的滤膜抽滤纯化、重溶解过程,得到铜纳米线喷涂液以备用;
S6:将步骤S5得到的喷涂液在柔性基底上进行高压喷涂成膜,同时用加热台在柔性基底底部加热蒸发溶剂,得到铜纳米线薄膜;
S7:将步骤S6得到的铜纳米线薄膜加入所述有机酸溶液中浸泡处理,之后用无水乙醇润洗,再真空烘干,初步得到铜纳米线透明电极;
S8:对步骤S7得到的铜纳米线透明电极进行氩气等离子体处理,之后真空存储,得到导电性能更强的铜纳米线透明电极;
S9:通过采用原子层沉积技术在步骤S8得到的铜纳米线透明电极表面沉积氧化铝保护层,得到抗氧化的铜纳米线透明电极。
2.根据权利要求1所述的抗氧化的铜纳米线透明电极的制备方法,其特征在于,所述步骤S1中的非极性有机溶剂为石油醚、正己烷、甲苯、苯中的至少一种;所述步骤S1得到的所述铜纳米线分散液中,铜纳米线的重量百分数为0.010~0.150wt%。
3.根据权利要求1所述的抗氧化的铜纳米线透明电极的制备方法,其特征在于,所述步骤S2中稀释后的铜纳米线分散液中,铜纳米线的重量百分数为0.002~0.030wt%,所述步骤S2中超声时间为0.5~60min。
4.根据权利要求1所述的抗氧化的铜纳米线透明电极的制备方法,其特征在于,在步骤S3和S7中,所述有机酸溶液为有机酸的水溶液,所述有机酸选自醋酸、柠檬酸、酒石酸、苯甲酸、抗坏血酸、苹果酸、水杨酸中的至少一种,所述有机酸溶液的浓度为0.1~10wt%;所述步骤S3中,所述添加的所述有机酸溶液的体积为10~100mL,超声时间为0.5~60min;所述步骤S7中,酸浸泡处理的时间为0.5~10min。
5.根据权利要求1所述的抗氧化的铜纳米线透明电极的制备方法,其特征在于,所述步骤S4中采用的滤膜的孔径为220nm~8μm;所述步骤S4重新溶解得到的铜纳米线分散液中,铜纳米线的重量百分数为0.010~0.150wt%;所述步骤S5得到的铜纳米线喷涂液中,铜纳米线的重量百分数为0.010~0.150wt%。
6.根据权利要求1所述的抗氧化的铜纳米线透明电极的制备方法,其特征在于,在所述步骤S6之前还包括对柔性基底进行预处理,所述预处理具体为:先用无水乙醇清洗所述柔性基底,烘干后再进行氧气等离子体的活化处理,功率为300~500W,氧气气流量为10~300SCCM,处理时间3~300min。
7.根据权利要求1所述的抗氧化的铜纳米线透明电极的制备方法,其特征在于,所述步骤S6中所述柔性基底的材质为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚二甲基硅氧烷、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨酯和聚四氟乙烯中的一种;所述步骤S6具体为:先将所述柔性基底置于加热台上预热1~20min,之后控制加热台温度为50~120℃,再高压喷涂成膜。
8.根据权利要求1所述的抗氧化的铜纳米线透明电极的制备方法,其特征在于,所述步骤S8中,氩气等离子体处理的功率为300~500W,氩气流量为10~300SCCM,处理时间为1~20min;真空存储的压强为-12~-15psi。
9.根据权利要求1所述的抗氧化的铜纳米线透明电极的制备方法,其特征在于,所述步骤S9中,原子层沉积的循环沉积次数为50~500次,氧化铝保护层的厚度为5~50nm。
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