[发明专利]微透镜制备方法及微透镜

权利要求书

1.一种微透镜制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、在衬底上涂覆光刻胶，以在所述衬底上形成光刻胶层；

S2、对所述光刻胶层进行光刻、显影处理，使所述光刻胶层形成一个或多个圆柱状的光刻胶柱；

S3、对所述衬底进行加热，使所述光刻胶柱热回流形成具有曲面面形的光刻胶结构；同时使所述光刻胶柱处于静电场中，通过静电力对所述曲面面形进行调控；

S4、通过离子束刻蚀技术，将所述光刻胶结构的曲面面形转移至所述衬底上，形成微透镜。

2.根据权利要求1所述的微透镜制备方法，其特征在于，所述衬底的材料包括硅、锗、玻璃、石英和蓝宝石中至少一种。

3.根据权利要求1所述的微透镜制备方法，其特征在于，步骤S1中，所述衬底的厚度大于所述光刻胶层的厚度。

4.根据权利要求1所述的微透镜制备方法，其特征在于，所述光刻胶层的厚度为5μm～100μm；

所述光刻胶柱的直径为50μm～2000μm。

5.根据权利要求1所述的微透镜制备方法，其特征在于，步骤S3中，将两个极板分别设置在所述衬底的上方和下方；对两个所述极板施加500V～10000 V的电压，形成静电场。

6.根据权利要求5所述的微透镜制备方法，其特征在于，一所述极板置于所述衬底的下方，另一所述极板通过支架固定在所述衬底和光刻胶柱的上方。

7.根据权利要求1所述的微透镜制备方法，其特征在于，步骤S3中，所述衬底置于可加热底板上，通过所述可加热底板对所述衬底及其上的光刻胶柱加热。

8.根据权利要求1所述的微透镜制备方法，其特征在于，所述离子束刻蚀技术选用感应耦合等离子刻蚀，蚀刻气体为SF₆和O₂。

9.根据权利要求1-8任一项所述的微透镜制备方法，其特征在于，对所述衬底的加热温度为100℃～200℃，加热时间为1 min～10min。

10.一种微透镜，其特征在于，采用权利要求1-9任一项所述的微透镜制备方法制成。