[发明专利]一种带隙基准结构有效
申请号: | 202210912429.2 | 申请日: | 2022-07-30 |
公开(公告)号: | CN115185329B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 顾明;冒鑫;黄达良;薛恺;王秀芬;皮蓓蓓 | 申请(专利权)人: | 上海锐星微电子科技有限公司 |
主分类号: | G05F1/56 | 分类号: | G05F1/56 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201600 上海市松*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基准 结构 | ||
1.一种带隙基准结构,其特征在于,包括:
运算放大器电路(1)、基准电路(2)、偏置电路(3)以及启动电路(4),所述偏置电路(3)与所述基准电路(2)连接,用于为所述基准电路(2)提供偏置电压,并抬高运算放大器的输入电压,所述基准电路(2)与所述运算放大器电路(1)连接,用于产生精准的PTAT电流,并使得所述放大器电路的输入电压满足所述运算放大器电路(1)的最低输入电压阈值要求;
所述基准电路(2)包括第五PMOS管P4、第六PMOS管P5、第七PMOS管P6、第一电阻R0、第二电阻R1、第三电阻R2、第四电阻R3、第一三极管Q0以及第二三极管Q1;所述第五PMOS管P4、所述第六PMOS管P5以及所述第七PMOS管P6的源极均与电源电压VDD连接,所述第五PMOS管P4、所述第六PMOS管P5以及所述第七PMOS管P6的栅极相互连接,并与所述运算放大器电路(1)连接;
所述第五PMOS管P4的漏极与所述第一三极管Q0的发射极以及所述运算放大器电路(1)连接;所述第六PMOS管P5的漏极与所述第一电阻R0的一端以及所述运算放大器电路(1)连接,所述第一电阻R0的另一端连接于所述第二三极管Q1的发射极,所述第二三极管Q1的基极与所述第一三极管Q0的基极连接,所述第二三极管Q1的集电极与所述第一三极管Q0的集电极均与地线GND连接;所述第七PMOS管P6的漏极与所述第四电阻R3的一端以及所述偏置电路(3)连接,所述第四电阻R3的另一端与所述第二三极管Q1的集电极连接;
所述第二电阻R1的一端连接于所述第一三极管Q0的发射极,所述第二电阻的另一端连接于所述第一三极管Q0的基极;所述第三电阻R2的一端与所述第六PMOS管的漏极连接,所述第三电阻R2的另一端与所述第二三极管Q1的基极连接。
2.根据权利要求1所述的一种带隙基准结构,其特征在于,所述运算放大器电路(1)包括运放模块(5)和偏置模块(6),所述偏置模块(6)与所述运放模块(5)连接,以用于为所述运放模块(5)提供偏置电压。
3.根据权利要求2所述的一种带隙基准结构,其特征在于,所述运放模块(5)包括第一NMOS管N0、第二NMOS管N1、第三NMOS管N2、第一PMOS管P0和第二PMOS管P1,所述第一PMOS管P0与所述第二PMOS管P1的源极分别与电源电压VDD连接,所述第一PMOS管P0的栅极和漏极以及所述第二PMOS管P1的栅极相互连接,所述第一PMOS管P0的漏极与所述第二NMOS管N1的漏极连接,所述第二NMOS管N1的栅极与所述第五PMOS管P4的漏极连接;
所述第二PMOS管P1的漏极与所述第一NMOS管N0的漏极以及所述偏置模块(6)连接,所述第一NMOS管N0的栅极与所述第六PMOS管P5的漏极连接,所述第一NMOS管N0的源极与所述第二NMOS管N1的源极相互连接后与所述第三NMOS管N2的漏极连接,所述第三NMOS管N2的栅极与所述偏置模块(6)连接,所述第三NMOS管N2的源极与地线GND连接。
4.根据权利要求3所述的一种带隙基准结构,其特征在于,所述偏置模块(6)包括第三PMOS管P2、第四NMOS管N3以及第五NMOS管N4,所述第三PMOS管P2的源极与电源电压VDD连接,所述第三PMOS管P2的栅极与所述第二PMOS管P1的漏极以及所述第五PMOS管P4的栅极连接,所述第三PMOS管P2的漏极与所述第五NMOS管N4的漏极连接,所述第五NMOS管N4的源极与所述第四NMOS管N3的漏极连接,所述第四NMOS管N3的栅极与所述第三NMOS管N2的栅极以及所述第五NMOS管N4的漏极连接,所述第四NMOS管N3的源极与地线GND连接。
5.根据权利要求4所述的一种带隙基准结构,其特征在于,所述偏置电路(3)包括电流镜模块(7)、电平移位模块(8)和负反馈模块(9),所述电流镜模块(7)与所述电平移位模块(8)和所述负反馈模块(9)连接,为所述电平移位模块(8)提供导通电流以及为所述负反馈模块(9)提供输入电平,所述电平移位模块(8)和所述负反馈模块(9)连接,用于稳定所述电平移位模块(8)的输出电平。
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