[发明专利]成像光学系统、相机模块及电子装置

权利要求书

1.一种成像光学系统，其特征在于，沿一中心光路依序包含：

一红外光吸收元件，为红外光吸收塑胶元件，且该红外光吸收元件用以折射光线；

一红外光减少膜层，较该红外光吸收元件的一入光面靠近该成像光学系统的一成像面；以及

一平板元件，设置于该红外光减少膜层与该成像面之间且为一体成型，该平板元件包含一透光部与一支架部，其中该透光部与该成像面对应设置，该支架部环绕该透光部，使该透光部保持于该中心光路上的一特定位置；

其中，该平板元件还包含一疏密结构层，该疏密结构层设置于该透光部的一入光面与一出光面中至少一者，该疏密结构层往一空气方向渐疏，且在该透光部的该入光面与该出光面中至少该者形成多个孔洞；

其中，该疏密结构层的主要材质为陶瓷，且该疏密结构层对波长区间420nm至680nm的一光线的平均反射率小于0.98％；

其中，该疏密结构层的晶体平均高度为GH，该成像光学系统的焦距为f，该红外光吸收元件与该红外光减少膜层沿该中心光路的距离为L1，该红外光减少膜层与该疏密结构层沿该中心光路的距离为L2，其满足以下条件：

60nm≤GH≤400nm；

0.0≤L1/f≤0.21；以及

0.21≤L2/f。

2.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该疏密结构层对波长区间400nm至900nm的一光线的平均反射率小于0.98％。

3.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该疏密结构层对波长区间400nm至900nm的一光线的平均反射率小于0.5％。

4.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该疏密结构层的晶体平均高度为GH，其满足下列条件：

120nm≤GH≤300nm。

5.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，还包含：

一中介层，连接该疏密结构层与该平板元件；

其中，该中介层通过所述多个孔洞中至少一者与空气接触。

6.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该红外光减少膜层设置于该红外光吸收元件的一出光面。

7.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，还包含：

一膜层设置元件，设置于该红外光吸收元件的一像侧；

其中，该红外光减少膜层设置于该膜层设置元件的一入光面与一出光面中其中一者。

8.如权利要求7所述的成像光学系统，其特征在于，该膜层设置元件紧邻该红外光吸收元件。

9.如权利要求8所述的成像光学系统，其特征在于，还包含：

一胶体，粘合该红外光吸收元件与该膜层设置元件。

10.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该平板元件的该支架部为不透光塑胶支架部。

11.如权利要求10所述的成像光学系统，其特征在于，该平板元件通过埋入射出或二次射出的方式一体成型。

12.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该平板元件还包含一遮光部，且该遮光部与该透光部毗邻设置。

13.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该疏密结构层同时设置于该透光部的该入光面与该出光面。

14.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该疏密结构层同时设置于该支架部的一表面的至少一部分。

15.如权利要求1所述的成像光学系统，其特征在于，该成像光学系统的焦距为f，该透光部的厚度为THI，其满足以下条件：

0.005≤THI/f≤0.35。