[发明专利]一种基于共轭酞菁框架的单原子Ag抗菌材料及其制备方法

权利要求书

1.一种基于共轭酞菁框架的单原子Ag抗菌材料，其特征在于：具有式(1)结构：

其中，中心为单原子Ag，R为H或者F、Cl、OH、CN、NH₂基团中一种或两种及两种以上官能团。

2.根据权利要求1所述的一种基于共轭酞菁框架的单原子Ag抗菌材料的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

A、共轭酞菁框架铆钉单原子Ag结构主体的合成

取单体1,2,4,5-四氰基苯和Ag离子源的化合物摩尔比例1:0.25-1:1.5，溶解于混合溶剂Ⅰ中混合均匀，加热至70℃反应15分钟后，再升温至180-220℃搅拌反应1-4小时，自然冷却至室温，溶液颜色变深至墨绿色或黑色，停止反应，除去溶剂后洗去未反应完全的单体，通过离心得到共轭酞菁框架铆钉单原子Ag结构主体；

B、共轭酞菁框架铆钉单原子Ag结构功能化材料的合成

将步骤A中得到的共轭酞菁框架铆钉单原子Ag结构主体与功能化配体以摩尔比例1:1-1:2溶解于混合溶剂Ⅱ中混合均匀，加热至180-220℃搅拌反应1-4小时，自然冷却至室温后停止反应，除去溶剂后洗去未反应完全的单体，通过离心得到共轭酞菁框架铆钉单原子Ag结构功能化材料。

3.根据权利要求2所述的一种基于共轭酞菁框架的单原子Ag抗菌材料的制备方法，其特征在于：Ag离子源为硝酸银、三氟乙酸银、醋酸银中的一种，Ag离子源为结构导向剂和配位中心。

4.根据权利要求2所述的一种基于共轭酞菁框架的单原子Ag抗菌材料的制备方法，其特征在于：功能化配体包括3,4,5,6-四氟邻苯二腈、四氯邻苯二腈、1,2-二氨基邻苯二腈、4-氨基邻苯二甲腈、4-硝基邻苯二甲腈、3,6-二羟基邻苯二甲腈中的一种或多种。

5.根据权利要求2所述的一种基于共轭酞菁框架的单原子Ag抗菌材料的制备方法，其特征在于：混合溶剂Ⅰ为乙二醇、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺按体积比例1:1:1混合配制。

6.根据权利要求2所述的一种基于共轭酞菁框架的单原子Ag抗菌材料的制备方法，其特征在于：混合溶剂Ⅱ为二甲苯、二甲基亚砜按体积比例1:1混合配制。

7.根据权利要求2所述的一种基于共轭酞菁框架的单原子Ag抗菌材料的制备方法，其特征在于：步骤A和步骤B中反应加热采用微波加热的方式。