[发明专利]一种激光干涉光刻系统在审

专利信息
申请号: 202210969954.8 申请日: 2022-08-12
公开(公告)号: CN115453826A 公开(公告)日: 2022-12-09
发明(设计)人: 王杰;李娜 申请(专利权)人: 北京华卓精科科技股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01J9/02
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 郑哲琦;施磊
地址: 100176 北京市大兴区经济技术开发区科创十*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 激光 干涉 光刻 系统
【权利要求书】:

1.一种激光干涉光刻系统,其特征在于,所述系统包括:激光器、光路系统、相位检测装置和基底;

所述激光器用于生成激光光源;所述激光光源经所述光路系统分光后形成参考光、第一测量光和第二测量光;所述参考光、所述第一测量光和所述第二测量光入射至所述相位检测装置;

所述相位检测装置用于基于所述参考光、所述第一测量光和所述第二测量光,获得所述第一测量光与所述第二测量光之间的相位差,并基于所述相位差向所述光路系统反馈补偿指令;

所述光路系统还用于接收所述补偿指令,基于所述补偿指令消除所述相位差,获得无相位差的两束曝光光束;

所述无相位差的两束曝光光束用于在所述基底上形成预设图案。

2.根据权利要求1所述的激光干涉光刻系统,其特征在于,所述光路系统包括:第一声光调制器、第二声光调制器、第三声光调制器、光栅和多个反射镜;

所述激光光源经所述第一声光调制器分出零级衍射光和第一一级衍射光;所述零级衍射光经反射镜转向后,由所述光栅将其分为第一光束和第二光束;所述第一光束经反射镜转向后,由所述第二声光调制器对其进行调制,输出第二一级衍射光作为所述第一测量光;所述第二光束经反射镜转向后,由所述第三声光调制器对其进行调制,输出第三一级衍射光作为所述第二测量光;所述第一一级衍射光经反射镜转向后获得所述参考光。

3.根据权利要求2所述的激光干涉光刻系统,其特征在于,所述第一一级衍射光具有所述第一声光调制器赋予的第一附加频率;所述第二一级衍射光具有所述第二声光调制器赋予的第二附加频率;所述第三一级衍射光具有所述第三声光调制器赋予的第三附加频率;所述第一附加频率、所述第二附加频率和所述第三附加频率两两之间均不相同。

4.根据权利要求1所述的激光干涉光刻系统,其特征在于,所述系统还包括:分光平板;所述无相位差的两束曝光光束入射至所述分光平板,经所述分光平板分光后入射至所述基底,对所述基底进行曝光,以在所述基底上形成所述预设图案。

5.根据权利要求2所述的激光干涉光刻系统,其特征在于,所述相位检测装置包括:相位检测干涉仪和控制器;

所述相位检测干涉仪用于:接收所述参考光、所述第一测量光和所述第二测量光;使所述参考光与所述第一测量光发生干涉,获得第一干涉测量信号;使所述参考光与所述第二测量光发生干涉,获得第二干涉测量信号;将所述第一干涉测量信号和所述第二干涉测量信号传输至所述控制器;

所述控制器用于:接收所述第一干涉测量信号和所述第二干涉测量信号;基于所述第一干涉测量信号和所述第二干涉测量信号,获得所述第一测量光与所述第二测量光之间的所述相位差,并基于所述相位差向所述第二声光调制器或所述第三声光调制器反馈所述补偿指令;

所述第二声光调制器或所述第三声光调制器还用于接收所述补偿指令,基于所述补偿指令消除所述相位差,获得无相位差的两束曝光光束。

6.根据权利要求5所述的激光干涉光刻系统,其特征在于,所述相位检测干涉仪包括:第一光电探测器、第二光电探测器,以及,依次贴合连接的第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜;其中,所述第二透镜与所述第三透镜的连接面为第一分光面,所述第一透镜与所述第二透镜的连接面为第二分光面,所述第三透镜与所述第四透镜的连接面为第三分光面;

所述参考光经所述第三透镜入射至所述第一分光面,形成第一透射光和第一反射光;所述第一测量光经所述第一透镜入射至所述第二分光面,形成第二反射光;所述第一透射光在所述第二分光面与所述第二反射光合束,形成所述第一干涉测量信号;所述第二测量光经所述第四透镜入射至所述第三分光面,形成第三反射光;所述第一反射光在所述第三分光面与所述第三反射光合束,形成所述第二干涉测量信号;

所述第一光电探测器用于接收所述第一干涉测量信号,并将所述第一干涉测量信号传输至所述控制器;所述第二光电探测器用于接收所述第二干涉测量信号,并将所述第二干涉测量信号传输至所述控制器。

7.根据权利要求6所述的激光干涉光刻系统,其特征在于,所述第一分光面、所述第二分光面和所述第三分光面上均镀有分光膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京华卓精科科技股份有限公司,未经北京华卓精科科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210969954.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top