[发明专利]一种光热转换薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种光热转换薄膜，其特征在于，包括

基底层；

连接于基底层上表面的吸收层；

连接于吸收层上表面的二氧化铪层；

连接于二氧化铪层上表面的介质层；

其中，所述二氧化铪层由原子层沉积技术和微波退火技术制备而得。

2.如权利要求1所述的光热转换薄膜，其特征在于：所述二氧化铪层的厚度大于30纳米。

3.如权利要求1所述的光热转换薄膜，其特征在于：所述二氧化铪层至少部分地为晶体结构。

4.如权利要求1所述的光热转换薄膜，其特征在于：所述介质层为三氧化二铝或二氧化硅。

5.如权利要求4所述的光热转换薄膜，其特征在于：所述介质层的厚度大于200纳米。

6.如权利要求1所述的光热转换薄膜，其特征在于：所述基底层的材料为不锈钢。

7.如权利要求1所述的光热转换薄膜，其特征在于：所述吸收层的材料为贵金属、二硼化铪、硅。

8.如权利要求1-6任一项所述的一种光热转换薄膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤1、在所述基底层上制备所述吸收层；

步骤2、在所述吸收层上制备所述二氧化铪层；

步骤3、在所述二氧化铪层上制备所述介质层；

步骤4、将步骤3中获得的薄膜微波退火。

9.如权利要求8所述的光热转换薄膜的制备方法，其特征在于：步骤4中的退火温度为600摄氏度。

10.如权利要求9所述的光热转换薄膜，其特征在于：步骤4中的退火功率为900瓦。