[发明专利]辐照装置和方法

权利要求书

1.一种辐照装置，包括：

至少一个辐照腔室，用于包含待辐照材料的流体，所述腔室具有用于使流体流入所述腔室的至少一个入口和用于使流体流出所述腔室的至少一个出口；

至少一个冷却腔室，其具有用于使流体流入所述腔室的至少一个入口和用于使流体流出所述腔室的至少一个出口；

一个或更多个UV辐射源，其耦合到所述至少一个辐照腔室；

一个或更多个密封垫或垫圈，其设置在一个或更多个辐射源附近以保护所述一个或更多个辐射源免受辐照装置和/或外部环境中的流体的影响；和

至少一个热交换机构，其热耦合到所述一个或更多个辐射源和所述至少一个冷却腔室。

2.一种辐照装置，包括：

至少一个辐照腔室，用于包含待辐照材料的流体，所述腔室具有用于使流体流入所述腔室的至少一个入口和用于使流体流出所述腔室的至少一个出口；

至少一个冷却腔室，其具有用于使流体流入所述腔室的至少一个入口和用于使流体流出所述腔室的至少一个出口；

一个或更多个UV辐射源，其耦合到所述至少一个辐照腔室；

至少一个热交换机构，其热耦合到所述一个或更多个辐射源和所述至少一个冷却腔室；

其中，所述一个或更多个UV辐射源在使用检测机制或控制电路的动态控制下工作，用于基于液体流速、水质、用户输入和/或其他工作条件来动态地控制UV辐射向待辐照材料的输送。

3.根据权利要求2所述的辐照装置，其中，性能数据存储在机载或外部数据存储单元中。

4.根据权利要求2所述的辐照装置，其中，一个或更多个密封垫或垫圈设置在一个或更多个辐射源附近以保护所述一个或更多个辐射源免受辐照装置和/或外部环境中的流体的影响。

5.根据权利要求1或权利要求4所述的辐照装置，其中，一个密封垫设置在所述一个或更多个辐射源附近以保护所述一个或更多个辐射源免受所述辐照装置中的水分的影响，并且另一个密封垫设置在所述一个或更多个辐射源附近以保护所述一个或更多个辐射源免受所述辐照装置和/或外部环境中的水分的影响。

6.根据权利要求1或权利要求4所述的辐照装置，其中，一个密封垫设置在所述一个或更多个辐射源附近以保护所述一个或更多个辐射源免受所述辐照装置中的液体的影响，并且另一个密封垫设置在所述一个或更多个辐射源附近以保护所述一个或更多个辐射源免受所述辐照装置和/或外部环境中的水分的影响。

7.根据权利要求1或权利要求2所述的辐照装置，其中，所述一个或更多个UV辐射源包括一个或更多个UV-C辐射源或其组合。

8.根据权利要求1或权利要求2所述的辐照装置，其中，所述一个或更多个UV辐射源包括布置成阵列的多个辐射源。

9.根据权利要求1或权利要求2所述的辐照装置，其中，所述一个或更多个UV辐射源的一个或更多个波长是动态可调的。

10.根据权利要求1或权利要求2所述的辐照装置，其中，所述一个或更多个UV辐射源向所述待辐照的材料传递波长的组合。

11.根据权利要求1或权利要求2所述的辐照装置，包括多个UV辐射源和多个辐照腔室，每个辐照腔室具有至少一个入口和一个出口，并且所有的UV辐射源与单个冷却腔室热耦合。