[发明专利]TCO设备智能化调控异质结电池方阻和膜厚的方法在审
申请号: | 202211025232.3 | 申请日: | 2022-08-25 |
公开(公告)号: | CN115346887A | 公开(公告)日: | 2022-11-15 |
发明(设计)人: | 黄金;潘国鑫;杨立友;王继磊;鲁林峰;鲍少娟;白焱辉;郭磊;贾慧君;李东栋 | 申请(专利权)人: | 晋能光伏技术有限责任公司;中国科学院上海高等研究院 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L31/18 |
代理公司: | 山西晋扬知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14125 | 代理人: | 张学元 |
地址: | 030600 山西省晋中市山西综改*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | tco 设备 智能化 调控 异质结 电池 方法 | ||
1.一种TCO设备智能化调控异质结电池方阻和膜厚的方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1,将透明导电薄膜沉积设备制备出的含透明导电薄膜的待检测硅片放置于载板上并运送至检测平台;
S2,检测平台检测待检测硅片的方阻和透明导电薄膜的膜厚,并将检测结果发送至透明导电薄膜沉积设备的控制端;
S3,控制端根据检测结果判断透明导电薄膜沉积设备当前制备的电池的方阻和/或透明导电薄膜的膜厚是否超过它们各自对应的质量过程控制范围;
S4,如果控制端确定当前制备的电池的方阻和/或透明导电薄膜的膜厚超过它们各自对应的质量过程控制范围,则修正透明导电薄膜沉积设备的氧气流量来调整沉积后续电池的方阻,和/或修正透明导电薄膜沉积设备的输出功率来调整沉积后续透明导电薄膜的膜厚;
S5,控制端将修正后的氧气流量和/或输出功率发送至透明导电薄膜沉积设备;
S6,透明导电薄膜沉积设备根据修正后的氧气流量和/或修正后的输出功率沉积后续运输过来的硅片的透明导电薄膜。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述S4中修正透明导电薄膜沉积设备的氧气流量来调整沉积后续电池的方阻,包括如下步骤:
S4-1,根据上阴极实际方阻和上阴极目标方阻之间的差值修正透明导电薄膜沉积设备上阴极的氧气流量来调整沉积后续电池片的上阴极方阻;
S4-2,根据下阴极实际方阻和下阴极目标方阻之间的差值修正透明导电薄膜沉积设备下阴极的氧气流量来调整沉积后续电池片的下阴极方阻。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述S4中修正透明导电薄膜沉积设备的输出功率来调整沉积后续透明导电薄膜的膜厚,包括如下步骤:
S4.1,根据上阴极实际膜厚和上阴极目标膜厚之间的差值修正透明导电薄膜沉积设备上阴极的输出功率来调整沉积后续透明导电薄膜的上阴极膜厚;
S4.2,根据下阴极实际膜厚和下阴极目标膜厚之间的差值修正透明导电薄膜沉积设备下阴极的输出功率来调整沉积后续透明导电薄膜的下阴极膜厚。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述S4-1在根据上阴极实际方阻和上阴极目标方阻之间的差值修正透明导电薄膜沉积设备上阴极的氧气流量时,设定上阴极目标方阻的阻值为X1,上阴极实际方阻的阻值为X2,则上阴极实际方阻和上阴极目标方阻之间的差值为ΔX=X2-X1,设定上阴极的氧气流量为O2-up,则在修正上阴极的氧气流量时,包括如下几种情况:
A、当-5≤ΔX≤5时,上阴极的氧气流量O2-up不变;
B、当-20≤ΔX<-5或5<ΔX≤20时,根据公式ΔO2-up=±(0.1~0.3)×﹝ΔX/5﹞来调节氧气流量的大小;其中,﹝ΔX/5﹞表示ΔX/5的正整数部分;当ΔX﹤0,±(0.1~0.3)取﹢号,表示需要增加上阴极的氧气流量;当ΔX﹥0,±(0.1~0.3)取﹣号,表示需要减少上阴极的氧气流量;
C、当ΔX﹤-20或者ΔX﹥20时,控制端确定误差超出范围,进行报警提示。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造