[发明专利]一种纳米孪晶ZrN扩散屏蔽层及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202211035260.3 申请日: 2022-08-26
公开(公告)号: CN115341167A 公开(公告)日: 2022-11-15
发明(设计)人: 刘俊凯;杨丽;周益春;程春玉;曹可;李聪;孙宇;李桂芳 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: C23C8/24 分类号: C23C8/24;C23C8/02;C23C8/80;C23C14/16;C23C14/32;C23C14/35
代理公司: 西安智大知识产权代理事务所 61215 代理人: 贺建斌
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 zrn 扩散 屏蔽 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种纳米孪晶ZrN扩散屏蔽层,其特征在于:包括锆合金基体表面设有的纳米孪晶ZrN扩散屏蔽层,纳米孪晶ZrN扩散屏蔽层外侧设有Cr金属涂层。

2.根据权利要求1所述的一种纳米孪晶ZrN扩散屏蔽层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

第一步,对锆合金基体的样品表面进行预处理,使得样品表面呈镜面且光洁;

第二步,将预处理后的样品在氮气环境中进行激光表面喷丸处理以生成ZrN扩散屏蔽层;

第三步,将激光表面喷丸处理后的样品冷却至室温,得到锆合金表面纳米孪晶ZrN扩散屏蔽层;

第四步,在样品纳米孪晶ZrN扩散屏蔽层外侧喷涂Cr金属涂层,最终得到锆合金基体外依次设有纳米孪晶ZrN扩散屏蔽层、Cr金属涂层。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:在第二步激光处理过程中,生成的ZrN会受到激光的冲击作用,在冲击应力的作用下ZrN内会生成纳米孪晶结构;此外在第三步激光表面喷丸处理后,样品表面温度从高温降低到室温,在该过程中的热应力作用也有利于ZrN内纳米孪晶结构的生成,最终生成纳米孪晶ZrN扩散屏蔽层。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:所述的第一步预处理包括打磨、抛光以及超声清洗。

5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:所述的第二步激光表面喷丸处理参数为:将样品夹持在样品架上,启动脉冲激光器,加载电压,激光能量50-600mJ,波长为532nm,重复频率10Hz,脉冲宽度8nm,扫描速度0.1-5mm/s,光斑直径0.5-4mm,所用气氛为纯氮气或氮气+惰性气体。

6.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:所述的第三步冷却环境为纯氮气或氮气+惰性气体。

7.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:所述的第四步喷涂方法包括磁控溅射、电弧离子镀、冷喷涂等;Cr金属涂层厚度为5-15μm。

8.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,包括以下步骤:

第一步,对锆合金基体的样品表面进行预处理,预处理包括打磨、抛光以及超声清洗,使得样品表面呈镜面且光洁;

第二步,将预处理后的样品在氮气环境中进行激光表面喷丸处理以生成ZrN扩散屏蔽层,将样品夹持在样品架上,启动脉冲激光器,加载电压,脉冲激光经透镜对样品表面喷丸处理;激光能量600mJ,波长为532nm,重复频率10Hz,脉冲宽度8nm,扫描速度5mm/s,光斑直径4mm,所用气氛为纯氮气;

第三步,将激光表面喷丸处理后的样品冷却至室温,得到锆合金表面纳米孪晶ZrN扩散屏蔽层;

由于在第二步激光处理过程中,生成的ZrN会受到激光的冲击作用,在冲击应力的作用下ZrN内会生成纳米孪晶结构;此外在第三步激光表面喷丸处理后,样品表面温度迅速从高温降低到室温,在该过程中的热应力作用也有利于ZrN内纳米孪晶结构的生成,最终生成纳米孪晶ZrN扩散屏蔽层;

第四步,在样品纳米孪晶ZrN扩散屏蔽层外侧喷涂Cr金属涂层,喷涂方法为磁控溅射,Cr金属涂层厚度为10μm;最终得到锆合金基体外依次设有纳米孪晶ZrN扩散屏蔽层、Cr金属涂层。

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