[发明专利]一种红外辐射调控结构

权利要求书

1.一种红外辐射调控结构，其特征在于：具备双红外吸收共振腔结构以及周期性图案的红外辐射调控结构；所述红外辐射调控功能层包括衬底、沉积在衬底表面的单层金属反射薄膜层以及交替沉积在金属反射层表面、呈周期性图案的介质薄膜层和金属薄膜层，所述多层结构由上至下分别为金属薄膜层、介质薄膜层、金属薄膜层、介质薄膜层、金属反射薄膜层、衬底。

2.根据权利要求1所述的红外辐射调控结构，其特征在于：所述辐射调控结构的总层数为6层，且与衬底接触的为单层金属反射薄膜层。

3.根据权利要求1所述的红外辐射调控结构，其特征在于：所述衬底材料为硅。

4.根据权利要求1所述的红外辐射调控结构，其特征在于：所述金属薄膜层材料为金、银或铜。

5.根据权利要求1所述的红外辐射调控结构，其特征在于：所述介质薄膜层材料为硫化锌。

6.根据权利要求1所述的红外辐射调控结构，其特征在于：所述单层金属反射薄膜层的厚度为200-300nm。

7.根据权利要求1所述的红外辐射调控结构，其特征在于：所述周期性图案是指呈圆盘形阵列分布的图案，所述圆盘形的半径为550-600nm，相邻圆盘之间的间距为100-400nm。

8.根据权利要求1所述的红外辐射调控结构，其特征在于：所述金属薄膜层的厚度为80-100nm，介质薄膜层的厚度为60-100nm。