[发明专利]涂层切削刀具及其制备方法在审
申请号: | 202211049735.4 | 申请日: | 2022-08-30 |
公开(公告)号: | CN115351317A | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
发明(设计)人: | 瞿峻;陈响明;王社权;温光华;汤爱民;刘萍 | 申请(专利权)人: | 株洲钻石切削刀具股份有限公司 |
主分类号: | B23B27/00 | 分类号: | B23B27/00;C23C16/34;C23C16/52;B23P15/28 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 黄丽 |
地址: | 412007 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涂层 切削 刀具 及其 制备 方法 | ||
1.一种涂层切削刀具,其特征在于,包括刀具基体以及设于所述刀具基体上的耐磨涂层,所述耐磨涂层至少包括AlxTi1-xCyN1-y涂层,其中,0.35≤x≤0.98,0.35≤x+y≤1.05,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层具有相对于晶体{111}和{311}平面的择优织构取向,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层的织构系数满足:0.8≤TC(111)≤6.0,0.8≤TC(311)≤6.0,且3.5≤TC(111)+TC(311)≤6.0。
2.根据权利要求1所述的涂层切削刀具,其特征在于,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层的微观结构为呈纤维状的柱状结构,在垂直于涂层表面的截面上沿AlxTi1-xCyN1-y涂层生长方向的90%厚度处柱状晶晶粒的平均宽度为d,AlxTi1-xCyN1-y涂层的厚度为h,h与d的比值h/d≥8。
3.根据权利要求1所述的涂层切削刀具,其特征在于,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层内与所述刀具基体表面垂直的任意剖面,在沿AlxTi1-xCyN1-y涂层生长方向上,由富Ti层和富Al层交替构成,存在Ti和Al交替的周期性浓度变化,在富Ti层中的Al原子分数低于富Al层中的Al原子分数,富Ti层中的Ti原子分数高于富Al层中的Ti原子分数,且Al原子分数的最高峰位置对应着Ti原子分数的最低峰位置。
4.根据权利要求3所述的涂层切削刀具,其特征在于,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层内与所述刀具基体表面垂直的任意剖面,在沿AlxTi1-xCyN1-y涂层生长方向上,Al元素分布曲线上高于涂层中Al元素平均原子分数的区域为富Al层的周期宽度dAl,Al元素分布曲线上低于涂层中Al元素平均原子分数的区域为富Ti层的周期宽度dTi,则0.1≤dAl/dTi≤50,且0.1nm≤dAl≤100nm。
5.根据权利要求4所述的涂层切削刀具,其特征在于,所述富Ti层与富Al层均为面心立方(fcc)晶体结构。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的涂层切削刀具,其特征在于,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层的纳米硬度大于32GPa。
7.根据权利要求1~5中任一项所述的涂层切削刀具,其特征在于,所述耐磨涂层还包括设于所述刀具基体与AlxTi1-xCyN1-y涂层之间的硬质基底层,所述硬质基底层的厚度为0.1μm~8μm,所述硬质基底层选自CVD沉积的TiN层、TiCN层和h-AlN层中的一种或其组合。
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