[发明专利]显示基板、制作方法和显示装置在审

专利信息
申请号: 202211057112.1 申请日: 2022-08-31
公开(公告)号: CN115312544A 公开(公告)日: 2022-11-08
发明(设计)人: 星光;冯耀耀;金童燮;李震芳;彭俊林;宋星星;张志华;杨增乾;黄正峰 申请(专利权)人: 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/133;G02F1/1362
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 王莹
地址: 230012 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 显示 制作方法 显示装置
【说明书】:

发明实施例提供一种显示基板、制作方法和显示装置。显示基板包括衬底基板和设置于衬底基板的周边区域的驱动模组;显示基板还包括扫描线、数据线和第一晶体管;扫描线、数据线和第一晶体管都设置于所述显示区域内;扫描线沿第一方向延伸,数据线沿第二方向延伸,第一方向与第二方向相交;第一晶体管的第一极和所述数据线耦接,第一晶体管包括第一半导体层;驱动模组包括多个第二晶体管和形成于第一金属层的连接线,至少一个第二晶体管与所述连接线耦接,第二晶体管包括第二半导体层,连接线与衬底基板之间不设置有所述第二半导体层。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板、制作方法和显示装置。

背景技术

相关的液晶显示面板亟待解决的问题有DOP(SD线open,源漏金属层上的走线断路)、BD(亮点)、flicker NG(闪烁不良)等。

在相关技术中,采用半导体层掩膜+栅绝缘层掩膜+源漏金属层掩膜来制作显示基板,经过不良解析,发现使用GI(栅金属层)+SD(源漏金属层)halfstone(半色调)工艺,SDT(SD halfstone)mask(掩膜)后的ashing(灰化)工序较容易造成SD层(源漏金属层)以下的半导体层被刻蚀,因此在2nd SD etch(第二次源漏金属层刻蚀)时诱发SD线Open,增加维修时间和成本。同时,相关技术使用干刻设备进行ashing工艺,因干刻设备物理限制,当前达不到极高的均一性,导致沟道长度不均而产生闪烁不良,并容易造成亮点。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种显示基板、制作方法和显示装置,解决现有技术中由于在SDT掩膜后的灰化工艺造成的SD层以下的半导体层被刻蚀而引起的SD线断路,以及引起的沟道长度不均而产生闪烁不良,容易造成亮点的问题。

在一个方面中,本发明实施例提供一种显示基板,包括衬底基板和设置于所述衬底基板的周边区域的驱动模组;所述驱动模组用于为设置于所述衬底基板的显示区域内的像素电路提供驱动信号;所述显示基板还包括扫描线、数据线和第一晶体管;所述扫描线、所述数据线和所述第一晶体管都设置于所述显示区域内;

所述扫描线沿第一方向延伸,所述数据线沿第二方向延伸,所述第一方向与所述第二方向相交;

所述第一晶体管的第一极和所述数据线耦接,所述第一晶体管包括第一半导体层;

所述驱动模组包括多个第二晶体管和形成于第一金属层的连接线,至少一个所述第二晶体管与所述连接线耦接,所述第二晶体管包括第二半导体层,所述连接线与所述衬底基板之间不设置有所述第二半导体层。

可选的,在所述显示区域内,所述数据线与所述衬底基板之间设置有半导体层。

可选的,所述第一金属层为源漏金属层。

可选的,所述驱动模组包括多级驱动电路;所述驱动电路包括上拉节点控制电路、下拉节点控制电路、输出电路、输出复位电路和储能电路;

所述上拉节点控制电路用于控制上拉节点的电位;

所述下拉节点控制电路用于控制下拉节点的电位;

所述储能电路与所述上拉节点电连接,用于储存电能;

所述输出电路用于在上拉节点的电位的控制下,控制驱动信号输出端输出相应的驱动信号;

所述输出复位电路用于在所述下拉节点的电位和复位控制端提供的复位控制信号的控制下,对所述驱动信号输出端提供的驱动信号进行复位。

可选的,所述连接线包括所述输出电路包括的晶体管与驱动信号输出端之间的连接线、所述驱动电路包括的各所述第二晶体管之间的连接线、所述驱动电路包括的各所述第二晶体管与信号端之间的连接线,以及,所述驱动电路包括的各所述第二晶体管与信号线之间的连接线中的任意一个或多个。

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