[发明专利]一种基于含邻苯二酚侧基共轭高分子的荧光指纹显现剂及应用

说明书

本发明公开了一种基于含邻苯二酚侧基共轭高分子的荧光指纹显现剂及应用。将二乙炔基单体、含邻苯二酚基团和含苯基的二溴芳烃单体通过Sonogashira偶联反应合成邻苯二酚侧基被保护的共轭高分子前驱体，再经四丁基氟化铵脱除保护基团，得到一种含邻苯二酚侧基的荧光共轭高分子，将其溶解于N,N‑二甲基甲酰胺中，制备潜血指纹显现液。本发明提供的荧光指纹显现剂可以无纺布为基材，经指纹显现液浸泡，得到潜血指纹显现棉片，将棉片覆盖于负载有潜血指纹的客体上，揭下后即可在365 nm的紫外光下观察到明亮的指纹纹路。本发明提供的潜血指纹显现试剂荧光明亮，可清晰显现指纹的三级特征，且棉片可以被重复使用。

技术领域

本发明涉及一种指纹显现技术，特别涉及一种基于含邻苯二酚侧基共轭高分子的荧光指纹显现剂，及应用于对潜血指纹进行指纹显现，属于高分子荧光材料应用技术领域。

背景技术

指纹作为一种身份识别和认定方法被应用于生活中的各种场景，如重大考试、出入境管理和签署重要文件等。

一些试剂被开发用于显现潜血指纹且已经商业化，如氨基反应性化合物茚三酮（NH）、1,8-二氮杂芴-9-酮（DFO），蛋白染料氨基黑10B、考马斯蓝和血红素反应性化合物四甲基联苯胺（TMB）等。但是，这些试剂中的大多数都没有荧光、粘附性较差、需要复杂的操作并且具有毒性，如从作用原理考察，它们本身不发荧光，NH和DFO与指纹中的蛋白质发生反应显色，长时间暴露在水或湿气中会被洗掉，需要额外喷涂发光染色剂以获得更好的可视化效果。TMB由于具有较大毒性且对环境污染严重，在国际上已经不再作为指纹显现试剂被使用（参见文献：Fingerprint development techniques: theory and application.2018）。因此，开发简便、低毒、具有荧光且粘附性能好的潜指纹显现试剂具有重要意义。

荧光试剂可以增强指纹的摩擦脊与客体之间的对比度，在显现潜血指纹方面具有优势，其中，共轭聚合物具有合成简便、毒性低、成本相对较低、分子结构和荧光发射可调、抗光漂白性强以及荧光量子产率高等优点，是在指纹显现应用中的理想材料。邻苯二酚基团与指纹成份存在多种相互作用，被广泛地运用于粘合剂和生物材料。与普通粘合剂不同的是，含邻苯二酚基团的分子在潮湿环境中可以克服水合膜并产生卓越的水下附着力，因此可以用于工业场景和存在水及人体体液环境下的生物场景（参见文献：Progress inpolymer science, 2001, 26, 535；Progressin polymer science, 2021, 116,101388），然而应用于痕迹检验领域则未见报道。

发明内容

本发明针对现有技术存在的不足，提供一种侧基化学性质稳定、可以对潜血指纹选择性粘附和显现，得到的指纹纹路图像清晰、明亮的含邻苯二酚侧基共轭高分子的荧光指纹显现剂及其应用。

实现本发明的技术方案是提供一种基于含邻苯二酚侧基共轭高分子的荧光指纹显现剂，所述荧光指纹显现剂的制备方法包括如下步骤：

（1）按物质的量份数计，将1份记作化合物C1的羧酸化合物，1.5～2.8份1-(3-二甲氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺盐酸盐，0.5～0.8份4-二甲氨基吡啶和880～900份二氯甲烷混合，在冰水浴中搅拌0.5～1 h，加入1.5～1.8份苯乙胺继续搅拌1.5～2 h，再加热回流12～24 h；反应结束后，置于室温下，经萃取、旋蒸、柱层析分离提纯和干燥，得到一种含苯基的二溴芳烃单体，记作M3；

所述化合物C1的结构式为：

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所述单体M3的结构式为：

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