[发明专利]HyG在降低亚胺培南高耐药铜绿假单胞菌MIC的应用有效

专利信息
申请号: 202211057940.5 申请日: 2022-08-30
公开(公告)号: CN115337320B 公开(公告)日: 2023-08-15
发明(设计)人: 郑林;郭学军;祝令伟;卢葛锦;刘铭威;景洁;孙诗雯 申请(专利权)人: 军事科学院军事医学研究院军事兽医研究所
主分类号: A61K31/7048 分类号: A61K31/7048;A61P31/04;A61K31/407
代理公司: 长春市恒誉专利代理事务所(普通合伙) 22212 代理人: 梁紫钺
地址: 130122 吉林*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: hyg 降低 亚胺 培南高 耐药 铜绿 假单胞菌 mic 应用
【说明书】:

发明涉及HyG在降低亚胺培南高耐药铜绿假单胞菌MIC的应用,本发明通过生长曲线实验、杀菌曲线实验及药敏实验证明没食子酰基金丝桃苷可以降低亚胺培南对高耐药铜绿假单胞菌的最小抑菌浓度。没食子酰基金丝桃苷在8μg/mL浓度下将亚胺培南对高耐药铜绿假单胞菌的MIC由4096μg/mL降低至1024μg/mL。没食子酰基金丝桃苷可以作为亚胺培南抑制高耐药铜绿假单胞菌生长的助剂,或将没食子酰基金丝桃苷用于制备高耐药铜绿假单胞菌生长抑制药物或抗高耐药铜绿假单胞菌的药物,可以作为靶向抗菌药物使用,用于抑制高耐药铜绿假单胞菌的生长;对于药物的研发有重要意义。

技术领域

本发明涉及没食子酰基金丝桃苷(HyG)的应用,特别涉及HyG在降低亚胺培南高耐药铜绿假单胞菌最小抑菌浓度(minimum inhibitory concentration,MIC)的应用。

背景技术

铜绿假单胞菌(Pseudomonas areuginasa,PA)具有内毒素、荚膜、胞外酶和外毒素等多种致病因子,为院内感染的主要菌株。对于PA病的治疗,临床上使用的抗生素有β-内酰胺类、氨基糖苷类、喹诺酮类。近些年PA耐药性呈现逐年升高的趋势,出现了多重耐药(multi-drug resistance,MDR)PA。目前碳青霉烯类抗生素是治疗MDR-PA的首选药物。细菌为了应对碳青霉烯类抗生素的杀菌活性产生了碳青霉烯酶。编码该酶的基因多位于可移动元件上,导致了耐药基因可以在全世界范围内扩散。

世界卫生组织(WHO)在2017年将具有碳青霉烯抗性的PA列为迫切需要新型抗生素的极为重要的细菌,但是细菌进化的速度快于抗生素研发的速度,因此,寻找一种安全有效的碳青霉烯类抗生素增效剂具有十分重要的意义。

发明内容

本发明提供没食子酰基金丝桃苷(HyG)的一种新应用,特别是在降低亚胺培南高耐药铜绿假单胞菌MIC的应用。

HyG可以降低亚胺培南对高耐药铜绿假单胞菌的最小抑菌浓度。

进一步的,HyG在8μg/mL浓度下可以将亚胺培南对高耐药铜绿假单胞菌的MIC由4096μg/mL降低至1024μg/mL。

本发明将HyG与亚胺培南联合使用后,可以对高耐药铜绿假单胞菌的生长产生抑制,并维持一定时间。HyG单独使用时对细菌生长无明显影响,仅在与亚胺培南联合使用后对细菌表现出显著的杀伤性。

进一步的,浓度为8μg/mL-16μg/mL的HyG与浓度不小于1024μg/mL的亚胺培南联合作用,有效抑制高耐药铜绿假单胞菌的生长,显著降低高耐药铜绿假单胞菌的数量。

浓度8μg/mL的HyG与浓度1024μg/mL的亚胺培南联合使用后可以对高耐药铜绿假单胞菌的生长产生抑制,并维持8h以上。

本发明还提供HyG的一种新应用:将HyG作为亚胺培南抑制高耐药铜绿假单胞菌生长的助剂,或将HyG作为生产亚胺培南抑制高耐药铜绿假单胞菌生长制剂或药物的助剂。

进一步的,HyG作为助剂的浓度可以为2μg/mL-32μg/mL,优选为8μg/mL-16μg/mL。

本发明还提供HyG的一种新的制药用途,用于制备高耐药铜绿假单胞菌生长抑制剂或抗高耐药铜绿假单胞菌的药物。

所述的高耐药铜绿假单胞菌生长抑制剂或抗高耐药铜绿假单胞菌的药物中,至少同时包括HyG和亚胺培南。

本发明所述的高耐药铜绿假单胞菌生长抑制剂或抗高耐药铜绿假单胞菌的药物,作为靶向生长抑制剂或抗菌药物使用,用于抑制高耐药铜绿假单胞菌的生长。

本发明的有益效果:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于军事科学院军事医学研究院军事兽医研究所,未经军事科学院军事医学研究院军事兽医研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211057940.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top