[发明专利]一种提高光电跟踪转台安装精度的方法在审

专利信息
申请号: 202211063381.9 申请日: 2022-10-24
公开(公告)号: CN116203996A 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 张保;杜长江;夏冰 申请(专利权)人: 武汉鑫岳光电科技有限公司
主分类号: G05D3/12 分类号: G05D3/12;G01B11/26;G01C1/00
代理公司: 佛山知正知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 44483 代理人: 蒋佳玉
地址: 430000 湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区光谷三路777号*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 光电 跟踪 转台 安装 精度 方法
【权利要求书】:

1.一种提高光电跟踪转台安装精度的方法,光电跟踪转台包括工作平台、方位台、俯仰台,方位台安装在工作平台上,方位台在工作平台的X轴和Y轴平面上360°旋转,俯仰台安装在方位台,方位台的方位转动台上固定方位被检测装置,方位转动台一侧设置方位测量装置,俯仰台的俯仰转动台上固定俯仰被检测装置,俯仰转动台一侧设置俯仰测量装置,包括以下步骤:其特征在于:步骤a:将系统调整至安装零点,将方位被检测装置固定在方位转动台,将方位测量装置安装在方位转动台一侧;将俯仰被检测装置固定在俯仰转动台,将俯仰测量装置安装在俯仰转动台一侧;步骤b:光电跟踪转台软件控制方位转动台旋转,并同时记录方位转动密位数,直到方位测量装置检测到方位被检测装置信号,将此时的转动密位数存储为光电跟踪转台软件方位基准密位数;光电跟踪转台软件控制俯仰转动台旋转,并同时记录俯仰转动密位数,直到俯仰测量装置检测到俯仰被检测装置信号,将此时的转动密位数存储为光电跟踪转台软件俯仰基准密位数;步骤c:正常工作时,当方位测量装置检测到方位被检测装置,将记录的方位基准密位数作为实时的方位密度数进行更新;当俯仰测量装置检测到俯仰被检测装置,将记录的俯仰基准密位数作为实时的俯仰密度数进行更新。

2.权利要求1所述的一种提高光电跟踪转台安装精度的方法,其特征在于:方位测量装置安装在方位转动台正常工作时频繁转动的方位角度范围。

3.权利要求2所述的一种提高光电跟踪转台安装精度的方法,其特征在于:工作时频繁转动的方位角度范围为145°至225°。

4.权利要求1所述的一种提高光电跟踪转台安装精度的方法,其特征在于:俯仰测量装置安装在俯仰转动台正常工作时频繁转动的俯仰角度范围。

5.权利要求4所述的一种提高光电跟踪转台安装精度的方法,其特征在于:工作时频繁转动的俯仰角度范围为45°至135°。

6.权利要求1所述的一种提高光电跟踪转台安装精度的方法,其特征在于:步骤a中,方位被检测装置安装在方位测量装置附近。

7.权利要求1所述的一种提高光电跟踪转台安装精度的方法,其特征在于:步骤a中,俯仰被检测装置安装在俯仰测量装置附近。

8.权利要求1所述的一种提高光电跟踪转台安装精度的方法,其特征在于:方位测量装置为激光定位传感器,方位被检测装置为激光挡片。

9.权利要求1所述的一种提高光电跟踪转台安装精度的方法,其特征在于:方位测量装置为接近传感器,方位被检测装置为金属挡片。

10.权利要求1所述的一种提高光电跟踪转台安装精度的方法,其特征在于:俯仰测量装置为激光定位传感器,俯仰被检测装置为激光挡片。

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