[发明专利]实现石墨膜与蒙皮材料成型非平面构件的点阵胶接方法在审

专利信息
申请号: 202211065748.0 申请日: 2022-08-31
公开(公告)号: CN115447217A 公开(公告)日: 2022-12-09
发明(设计)人: 吴东奇;殷永霞;穆磊磊;孟洪涛;荆树崧;田丰 申请(专利权)人: 北京空间机电研究所
主分类号: B32B9/00 分类号: B32B9/00;B32B9/04;B32B3/24;B32B3/08;B32B7/14;B32B37/12;B32B37/10;B32B37/00;B32B38/00
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 杨春颖
地址: 100076 北京市丰*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 实现 石墨 蒙皮 材料 成型 平面 构件 点阵 方法
【权利要求书】:

1.一种实现石墨膜与蒙皮材料成型非平面构件的点阵胶接方法,其特征在于,包括:

采用石墨材料制备得到石墨层(2);

在石墨层(2)加工得到若干个通孔(201);

在石墨层(2)两侧面及各通孔(201)内涂满结构胶;

将封边层(3)置于石墨层(2)外侧;

将上层蒙皮(4)和下层蒙皮(1)分别敷设在石墨层(2)的上下两个侧面,与石墨层(2)进行胶接;其中,结构胶固化过程中在通孔(201)内形成胶柱,从而将石墨层(2)与上层蒙皮(4)和下层蒙皮(1)锚定,防止石墨层(2)与上层蒙皮(4)和下层蒙皮(1)发生相对位移导致两者脱粘;

待结构胶固化,完成石墨层(2)与上层蒙皮(4)和下层蒙皮(1)的胶接,得到轻质高导热非平面构件。

2.根据权利要求1所述的实现石墨膜与蒙皮材料成型非平面构件的点阵胶接方法,其特征在于,通孔(201)的直径为4mm。

3.根据权利要求1所述的实现石墨膜与蒙皮材料成型非平面构件的点阵胶接方法,其特征在于,各通孔(201)的间距为15mm。

4.根据权利要求1所述的实现石墨膜与蒙皮材料成型非平面构件的点阵胶接方法,其特征在于,各通孔(201)在石墨层(2)上呈正三角形密布。

5.根据权利要求1所述的实现石墨膜与蒙皮材料成型非平面构件的点阵胶接方法,其特征在于,封边层(3)的厚度与石墨层(2)一致。

6.根据权利要求1所述的实现石墨膜与蒙皮材料成型非平面构件的点阵胶接方法,其特征在于,上层蒙皮(4)和下层蒙皮(1)的外形尺寸相同。

7.根据权利要求1所述的实现石墨膜与蒙皮材料成型非平面构件的点阵胶接方法,其特征在于,封边层(3)为与蒙皮材料相同的一矩形框结构,矩形框的外框与上层蒙皮(4)和下层蒙皮(1)的外形尺寸一致;矩形框的内框与石墨层(2)的外形尺寸一致。

8.根据权利要求7所述的实现石墨膜与蒙皮材料成型非平面构件的点阵胶接方法,其特征在于,矩形框的宽度为5mm。

9.根据权利要求1所述的实现石墨膜与蒙皮材料成型非平面构件的点阵胶接方法,其特征在于,还包括:对石墨层(2)、封边层(3)、上层蒙皮(4)和下层蒙皮(1)的待胶接表面进行表面处理。

10.根据权利要求1所述的实现石墨膜与蒙皮材料成型非平面构件的点阵胶接方法,其特征在于,还包括:将上层蒙皮(4)和下层蒙皮(1)分别敷设在石墨层(2)的上下两个侧面之后,用真空袋封装,并抽真空排出夹层结构内部的气体,真空度≥0.006MPa。

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