[发明专利]半导体工艺设备、废气处理装置与阻塞物清理组件

权利要求书

1.一种阻塞物清理组件，其特征在于，所述阻塞物清理组件包括：

驱动机构，所述驱动机构包括串联连接的至少两个气缸单体，所述气缸单体包括缸筒、活动地穿设于所述缸筒的活塞杆、以及活动地设于所述缸筒内部并与所述活塞杆相连的活塞，所有的所述活塞杆依次串联连接形成驱动杆；

刮料组件，所述刮料组件与所述驱动杆相连，所述刮料组件用于活动地设于废气处理装置的进气通道中，以去除所述进气通道内壁上沉积的阻塞物。

2.根据权利要求1所述的阻塞物清理组件，其特征在于，所述阻塞物清理组件还包括设置于所述驱动杆与所述刮料组件之间的旋转机构，所述驱动杆通过所述旋转机构与所述刮料组件相连。

3.根据权利要求2所述的阻塞物清理组件，其特征在于，所述旋转机构包括第一连接杆与套筒；所述套筒包括相对的第一端与第二端，所述第一端与所述驱动机构相连，所述第一连接杆活动地穿设于所述套筒中，所述第一连接杆两端分别连接所述驱动杆、所述刮料组件；所述第一连接杆与所述套筒的其中一个上设有绕所述旋转机构的中心轴线呈弯曲状的导向结构，另一个设有与所述导向结构相配合的导向件。

4.根据权利要求3所述的阻塞物清理组件，其特征在于，所述导向结构为绕所述旋转机构的中心轴线呈螺旋状或弧形状设置。

5.根据权利要求3所述的阻塞物清理组件，其特征在于，所述导向结构为凹槽、通孔或导轨。

6.根据权利要求3所述的阻塞物清理组件，其特征在于，所述导向结构为两个，两个所述导向结构分别位于所述第一连接杆的相对两侧或分别位于所述套筒的相对两侧；所述导向件为两个，两个所述导向件对应地设置于两个所述导向结构中。

7.根据权利要求3所述的阻塞物清理组件，其特征在于，所述导向件为固定连接于所述套筒内壁上的针体、柱体或凸部；所述导向结构为形成于所述第一连接杆的外壁上的螺旋槽；所述导向件插入到所述螺旋槽中。

8.根据权利要求3所述的阻塞物清理组件，其特征在于，所述刮料组件包括线圈以及第二连接杆，所述线圈、所述第二连接杆均与所述第一连接杆相连，所述第二连接杆穿设于所述线圈中。

9.根据权利要求8所述的阻塞物清理组件，其特征在于，所述线圈为螺旋线圈，所述线圈包括可移动地套设于所述第一连接杆上的第一连接端，以及与所述第一连接端相对设置的第一自由端；所述第二连接杆包括与所述第一连接杆相连的第二连接端，以及与所述第二连接端相对设置的第二自由端；所述第一连接端的内径小于所述第二连接端的外径。

10.根据权利要求9所述的阻塞物清理组件，其特征在于，所述第二连接杆的端部与所述第一连接杆的端部可拆卸连接。

11.根据权利要求3所述的阻塞物清理组件，其特征在于，所述阻塞物清理组件还包括连接于所述第二端的密封盖，所述密封盖设有贯穿孔，所述第一连接杆可动地穿设于所述贯穿孔中，所述第一连接杆上设有密封抵触部，所述密封抵触部与所述套筒内壁密封抵触配合，所述密封抵触部与所述密封盖之间形成有腔室；所述阻塞物清理组件还包括压力检测器，所述压力检测器用于检测所述腔室内部的气压。

12.根据权利要求11所述的阻塞物清理组件，其特征在于，所述阻塞物清理组件还包括套设于所述第一连接杆上的密封圈，所述密封圈位于所述贯穿孔处。

13.根据权利要求1所述的阻塞物清理组件，其特征在于，至少两个所述气缸单体的缸筒依次串联连接，并形成一体化结构。