[发明专利]一种铜蚀刻液及制备方法和应用

权利要求书

1.一种铜蚀刻液，其特征在于：包括磷酸、强氧化性酸、抑制剂、表面活性剂、分散剂和去离子水；所述分散剂为奈系磺酸盐、木质素磺酸盐、腐殖酸钠和聚羧酸盐中的一种或多种组合。

2.如权利要求1所述的一种铜蚀刻液，其特征在于：按照质量百分比100％计算，所述蚀刻液包括10-20％的磷酸、1-10％的强氧化性酸、0.05-1％的抑制剂、0.01-1％的表面活性剂、0.01-1％的分散剂，余量为去离子水。

3.如权利要求1所述的一种铜蚀刻液，其特征在于：所述奈系磺酸盐为亚甲基二萘磺酸钠、甲基萘磺酸盐甲醛缩合物和苄基萘磺酸盐甲醛缩合物中的一种或多种组合；木质素磺酸盐为木质素磺酸钠、木质素磺酸钾和木质素磺酸钙中的一种或多种组合；聚羧酸盐为TERSPERSE 2700、SD-819、GYD-1252和SD-661中的一种或多种组合。

4.如权利要求1所述的一种铜蚀刻液，其特征在于：还包括生物絮凝剂，所述生物絮凝剂为聚氨基酸、葡聚糖、甘露聚糖、糖蛋白和N-乙酰葡萄糖胺中的一种或多种组合。

5.如权利要求4所述的一种铜蚀刻液，其特征在于：按照质量百分比100％计算，所述铜蚀刻液包括10-20％的磷酸、4-8％的强氧化性酸、0.2-0.4％的抑制剂、0.2-0.4％的表面活性剂、0.3-0.4％的分散剂、0.5-0.9％的生物絮凝剂，余量为去离子水。

6.如权利要求1所述的一种铜蚀刻液，其特征在于：所述强氧化性酸为硫酸、盐酸、高氯酸和硝酸中的一种或多种组合。

7.如权利要求1所述的一种铜蚀刻液，其特征在于：所述抑制剂为5-甲基四唑、5-氨基四唑、苯并三氮唑和咪唑中的一种或多种组合。

8.如权利要求1所述的一种铜蚀刻液，其特征在于：所述表面活性剂为异丙醇、2-苯氧基乙醇、炔二醇和聚乙二醇中的一种或多种组合。

9.如权利要求4所述的一种铜蚀刻液的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：将磷酸、强氧化性酸和去离子水加入容器中，在25℃、600-800rpm下搅拌10-20min；然后加入抑制剂、表面活性剂、分散剂和生物絮凝剂，在25℃、800-1000rpm下搅拌10-30min。

10.如权利要求1-8任一所述的一种铜蚀刻液的应用，其特征在于：在32℃条件下，使用铜蚀刻液对基板上的金属铜进行选择性蚀刻。