[发明专利]调制板透过率分布生成方法、调制板及光刻机照明系统在审
申请号: | 202211080390.9 | 申请日: | 2022-09-05 |
公开(公告)号: | CN115542679A | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
发明(设计)人: | 张方;黄振鑫;占文杰;曾爱军;黄惠杰 | 申请(专利权)人: | 上海镭望光学科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 秦翠翠 |
地址: | 201821 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调制 透过 分布 生成 方法 光刻 照明 系统 | ||
1.一种用于调制光场分布强度的调制板透过率分布生成方法,其特征在于,包括步骤:
S100:根据预设标准尺寸的平顶高斯照明光场构建沿扫描方向的一维光场分布轮廓I0;
S200:将目标平顶高斯照明光场转换成沿扫描方向的一维光场分布轮廓Iin,并判断光场分布轮廓Iin是否符合预设标准尺寸的分布轮廓,若不符合,执行步骤S300,若符合,执行步骤S500;
S300:根据光场分布轮廓I0和光场分布轮廓Iin计算调制板的初始透过率分布T0;
S400:基于能量损失率对所述初始透过率分布T0进行优化分析,获得符合要求的透过率分布;
S500:将符合要求的透过率分布扩展为二维透过率分布,形成具有二维透过率分布的调制板。
2.如权利要求1所述的调制板透过率分布生成方法,其特征在于,所述步骤S400具体包括步骤:
S401:对当前透过率分布叠加随机扰动,生成新的透过率分布Tnew;
S402:判断透过率分布Tnew对目标平顶高斯照明光场作用下的尺寸参数是否符合预设标准尺寸,若不符合,执行步骤S401,若符合,执行步骤S403;
S403:根据能量损失率判断新的透过率分布Tnew是否符合接收条件,若否,执行步骤S401,若是,执行步骤S404;
S404:将新的透过率分布Tnew更新为当前透过率分布,并根据更新后的当前透过率分布返回执行步骤S401;
S405:循环执行步骤S401-S404,直至满足循环结束条件。
3.如权利要求2所述的调制板透过率分布生成方法,其特征在于,所述步骤S403具体包括步骤:
S4031:计算新的透过率分布Tnew参数下的新的能量损失率Elost_new;
S4032:计算新的能量损失率Elost_new与前一能量损失率的差值;
S4033:判断所述差值是否小于零,若是,执行步骤S4034,若否执行步骤S4035;
S4034:接收新的透过率分布Tnew和新的能量损失率Elost_new;
S4035:计算接收新的透过率分布Tnew和新的能量损失率Elost_new的概率,并根据计算的概率接收新的透过率分布Tnew和新的能量损失率Elost_new。
4.如权利要求3所述的调制板透过率分布生成方法,其特征在于,所述根据计算的概率接收新的透过率分布Tnew和新的能量损失率Elost_new,具体为,比较所述概率与随机数的大小,若所述概率小于所述随机数,则接收新的透过率分布Tnew和新的能量损失率Elost_new。
5.如权利要求3所述的调制板透过率分布生成方法,其特征在于,在步骤S4031和步骤S4032之间,还包括步骤:设置最大透过率阈值和最小透过率阈值,通过最大透过率阈值和最小透过率阈值对不符合物理规律的新的透过率分布Tnew进行调整。
6.如权利要求2所述的调制板透过率分布生成方法,其特征在于,所述循环结束条件包括循环次数和目标冷却温度,其中,所述循环次数为内循环结束条件,所述目标冷却温度为外循环结束条件。
7.一种用于调制光场分布强度的调制板,其特征在于,所述调制板的透过率分布采用如权利要求1-6任一项所述的生成方法生成。
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