[发明专利]一种基于明暗场的晶圆缺陷检测方法

权利要求书

1.一种基于明暗场的晶圆缺陷检测方法，其特征在于，方法的步骤中含有：

将一目标晶圆置于检测光路中，通过检测光路利用明场光源对目标晶圆采集目标明场图像，通过检测光路利用暗场光源对目标晶圆采集目标暗场图像；通过检测光路利用明场光源对标准晶圆采集标准明场图像，并指定标准明场图像中的无缺陷区域作为配准检测区域；其中，明场光源和暗场光源的波长不同；

对目标明场图像进行处理，并根据标准明场图像对目标明场图像进行配准操作，得到目标明场图像对应配准检测区域的明场检测区域与配准检测区域的位置偏差；

根据得到的位置偏差索引到目标暗场图像的暗场检测区域；

对暗场检测区域内的图像进行缺陷检测。

2.根据权利要求1所述的晶圆缺陷检测方法，其特征在于，

所述明场光源为LED光源。

3.根据权利要求1所述的晶圆缺陷检测方法，其特征在于，

所述暗场光源为激光或环形LED。

4.根据权利要求1所述的晶圆缺陷检测方法，其特征在于，

所述检测光路包括两个相机，其中一相机接收明场信号，得到目标晶圆对应的目标明场图像或标准晶圆对应的标准明场图像；另外一相机接收暗场信号，得到目标晶圆对应的目标暗场图像。

5.根据权利要求1所述的晶圆缺陷检测方法，其特征在于，

所述检测光路包括光源控制器和相机，相机通过脉冲触发的方式使光源控制器控制明场光源和暗场光源进行明暗场交替，相机分时接收明场信号和暗场信号，通过分离明场信号和暗场信号分别得到目标晶圆对应的目标明场图像和目标暗场图像。

6.根据权利要求1所述的晶圆缺陷检测方法，其特征在于，

对暗场检测区域内的图像进行缺陷检测具体包括：

设定缺陷灰度阈值和缺陷颗粒大小；

对暗场检测区域内的图像按照灰度进行分割，分割的区域中的灰度大于缺陷灰度阈值的，则认为疑似缺陷区域；

然后通过缺陷颗粒大小进行疑似缺陷区域的过滤，筛选出缺陷区域。