[发明专利]气相沉积设备及其加热器

权利要求书

1.一种加热器，其特征在于：

所述加热器具有加热平面，所述加热平面上设置有至少三个阻挡件，至少三个所述阻挡件在所述加热平面上间隔设置，至少三个所述阻挡件在所述加热平面上围设有容纳区域，所述容纳区域用于容纳晶圆。

2.根据权利要求1所述的加热器，其特征在于：

至少三个所述阻挡件在所述加热平面上沿圆周方向间隔设置或者阵列设置，至少三个所述阻挡件围设出的容纳区域呈圆形设置。

3.根据权利要求2所述的加热器，其特征在于：

所述容纳区域的面积大于晶圆的面积。

4.根据权利要求1所述的加热器，其特征在于：

所述阻挡件具有朝向所述容纳区域的斜面、与所述斜面相邻的圆周面，以及与所述斜面和所述圆周面相邻的端面。

5.根据权利要求1所述的加热器，其特征在于：

所述阻挡件具有朝向所述容纳区域的斜面、相对的两个侧面，以及与两个所述侧面相邻且彼此相邻的后侧面和顶面；所述斜面与两个所述侧面和所述顶面相邻。

6.根据权利要求1所述的加热器，其特征在于：

所述阻挡件具有朝向所述容纳区域的斜面、相对的两个侧面、与两个所述侧面相邻的顶面，以及与所述顶面和两个所述侧面其中一面相邻的第一后侧面和与所述顶面和两个所述侧面的另一面相邻的第二后侧面；所述斜面与两个所述侧面和所述顶面相邻，所述第一后侧面和所述第二后侧面相邻。

7.根据权利要求1所述的加热器，其特征在于：

所述阻挡件具有朝向容纳区域的内弧面、与所述内弧面相对的外弧面、与所述内弧面和外弧面相邻的顶面，以及与所述内弧面和外弧面相邻且与所述顶面相邻的两个侧面。

8.根据权利要求1所述的加热器，其特征在于：

所述容纳区域内预设有至少一个检测点位，每个所述阻挡件均远离所述检测点位设置。

9.根据权利要求1所述的加热器，其特征在于：

所述容纳区域内凸设有若干凸点，若干所述凸点用于承载晶圆。

10.根据权利要求1所述的加热器，其特征在于：

所述加热器还包括至少两个抵顶件，所述抵顶件活动设置于所述加热器具有加热平面的一侧，所述抵顶件通过移动在重力方向上高出或低于所述加热平面。

11.一种气相沉积设备，其特征在于，包括：

反应腔；以及

如权利要求1-10任一项所述的加热器，所述加热器活动安装于所述反应腔。

12.根据权利要求11所述的气相沉积设备，其特征在于:

所述气相沉积设备还包括进气管道，所述进气管道通过进气口与所述反应腔连通，所述进气口在所述加热器上的投影位于所述容纳区域的几何中心。

13.根据权利要求12所述的气相沉积设备，其特征在于:

所述气相沉积设备还包括与所述进气口配合设置的喷淋板，所述喷淋板设置于所述反应腔内，气体经所述喷淋板流动至所述加热器。