[发明专利]一种氧化铟锡锌靶材、氧化物薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种氧化铟锡锌靶材，其特征在于，包含In、Sn、Zn、O，以原子摩尔比计：

In：Sn：Zn＝0.6988：M+N：N，其中，

所述M满足0＜M≤0.0199；

所述N满足0＜N＜0.33945。

2.根据权利要求1所述的氧化铟锡锌靶材，其特征在于，所述N满足0.0425≤N＜0.33945。

3.一种如权利要求1或2所述氧化铟锡锌靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1：制作氧化铟锡锌复合粉体；

步骤S2：将所述氧化铟锡锌复合粉体喷雾造粒，得氧化铟锡锌复合颗粒；

步骤S3：将所述氧化铟锡锌复合颗粒模压成型，经冷等静压后得到毛坯靶材；

步骤S4：将所述毛坯靶材脱脂后烧结，即得所述氧化铟锡锌靶材。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，步骤S1中，所述氧化铟锡锌复合粉体的具体制备方法包括：

将铟原料液、锡原料液和锌原料液混合，添加pH调节剂，调节pH至7.7～8.6反应，反应完成后，固液分离，收集固相，将所述固相干燥，煅烧，得氧化铟锡锌复合粉体。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，步骤S1中，所述铟原料液包括硫酸铟、硝酸铟和氯化铟中的至少一种；

优选的，所述锡原料液包括硫酸锡、硝酸锡和氯化锡中的至少一种；

优选的，所述锌原料液包括硫酸锌、硝酸锌和氯化锌中的至少一种；

优选的，所述反应的温度为20℃～45℃；

优选的，所述煅烧的温度为600℃～950℃。

6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，步骤S3中，所述模压成型的压力为0.1Mpa～0.8Mpa；

优选的，所述冷等静压的压力为150Mpa～250Mpa。

7.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，步骤S4中，所述脱脂的温度为400℃～700℃；所述烧结温度为1000℃～1500℃。

8.一种氧化物薄膜，其特征在于，采用如权利要求1或2所述氧化铟锡锌靶材经溅射沉积工艺或蒸发沉积工艺制得。

9.一种如权利要求8所述的氧化物薄膜的制备方法，其特征在于，包括将所述氧化铟锡锌靶材安装在磁控溅射靶位上，然后将磁控溅射腔体内真空调整至小于8×10^-4Pa，并在基材上经磁控溅射后即得；

优选的，所述磁控溅射过程中的气氛为氩气气氛或氩气和氧气混合气氛；

优选的，所述磁控溅射过程中所述氧化铟锡锌靶材的靶面磁场强度为300Gs～1000Gs。

10.一种如权利要求1所述的氧化铟锡锌靶材或如权利要求8所述的氧化物薄膜在制备异质结太阳能电池、显示器或光学元器件中的应用。