[发明专利]光模块消光比调整的方法、系统、电子设备和存储介质在审
申请号: | 202211103142.1 | 申请日: | 2022-09-09 |
公开(公告)号: | CN116296274A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 贺卫强;王冰;邱金金;李林科;吴天书;杨现文;张健 | 申请(专利权)人: | 武汉联特科技股份有限公司 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人: | 吴慧珺 |
地址: | 430000 湖北省武汉市东*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 模块 调整 方法 系统 电子设备 存储 介质 | ||
本申请提供了光模块消光比调整的方法、系统、电子设备和存储介质,包括:通过递增算法生成待调整调制电流的平滑基数值;基于温度对所述平滑基数值进行平滑处理,获取由多个平滑值组成的平滑值数组,所述平滑值数组中的平滑值数量与待调整调制电流的数量一一对应;将所述平滑值数组添加到对应的待调整调制电流,获取第一已调整调制电流;将所述第一已调整调制电流微调为递增数列的第二已调整调制电流;通过预设的步进值对所述第二已调整调制电流进行步进调整,获取第三已调整调制电流,所述第三已调整调制电流与预设的光模块消光比的工艺参数值的差值正负翻转。使得在光模块生产时可以快速对消光比不合格的光模块进行调整,保证光模块的生产效率。
技术领域
本申请属于光模块领域,尤其涉及光模块消光比调整的方法、系统、电子设备和存储介质。
背景技术
光模块在常温下进行初测调整,但在终测时,需在高温和低温下进行性能检测,由于光模块器件一致性存在偏差,每个光模块器件的调质电流Imod查找表也难免存在偏差,导致消光比ER(Extinction Ritio)会超范围,此时,需要软件对高低温段的调质电流Imod查找表进行自动平滑微调,使光模块的消光比ER满足工艺设定的参数范围。
发明内容
本发明实施例的主要目的在于提供光模块消光比调整的方法、系统、电子设备和存储介质,使得在光模块生产时可以快速对消光比不合格的光模块进行调整,保证光模块的生产效率。
第一方面,提供了光模块消光比调整的方法,所述方法包括:
通过递增算法生成待调整调制电流的平滑基数值;
基于温度对所述平滑基数值进行平滑处理,获取由多个平滑值组成的平滑值数组,所述平滑值数组中的平滑值数量与待调整调制电流的数量一一对应;
将所述平滑值数组添加到对应的待调整调制电流,获取第一已调整调制电流;
将所述第一已调整调制电流微调为递增数列的第二已调整调制电流;
通过预设的步进值对所述第二已调整调制电流进行步进调整,获取第三已调整调制电流,所述第三已调整调制电流与预设的光模块消光比的工艺参数值的差值正负翻转。
在一个可能的实现方式中,基于温度对所述平滑基数值进行平滑处理,获取由多个平滑基数值组成的平滑值数组,包括:
获取待调整调制电流对应的温度档位数量,将所述平滑基数值除以所述温度档位数量获取单位增幅,以0为初始值叠加所述单位增幅后取四舍五入获取不同的平滑值。
在另一个可能的实现方式中,所述将所述第一已调整调制电流微调为递增数列的第二已调整调制电流,包括:
将递减的平滑值调整为与前一平滑值相同的数值。
第二方面,提供了光模块消光比调整的系统,所述系统包括:
平滑基数值生成模块,用于通过递增算法生成待调整调制电流的平滑基数值;
平滑值数组获取模块,用于基于温度对所述平滑基数值进行平滑处理,获取由多个平滑值组成的平滑值数组,所述平滑值数组中的平滑值数量与待调整调制电流的数量一一对应;
第一已调整调制电流获取模块,用于将所述平滑值数组添加到对应的待调整调制电流,获取第一已调整调制电流;
第二已调整调制电流获取模块,用于将所述第一已调整调制电流微调为递增数列的第二已调整调制电流;
第三已调整调制电流获取模块,通过预设的步进值对所述第二已调整调制电流进行步进调整,获取第三已调整调制电流,所述第三已调整调制电流与预设的光模块消光比的工艺参数值的差值正负翻转。
在一个可能的实现方式中,所述平滑值数组获取模块获取平滑值数组,包括:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉联特科技股份有限公司,未经武汉联特科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211103142.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。