[发明专利]一种共轭微孔聚合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种共轭微孔聚合物，其特征在于，所述共轭微孔聚合物的构成单元的结构示意式如下所示：

其中，为

2.根据权利要求1所述的共轭微孔聚合物，其特征在于，所述共轭微孔聚合物的孔径小于2nm，其BET表面积为371cm² g^-1-837cm² g^-1。

3.根据权利要求1所述的共轭微孔聚合物，其特征在于，所述共轭微孔聚合物的光学带隙为1.61eV-1.74eV。

4.一种制备权利要求1至3任一项所述的共轭微孔聚合物的方法，其特征在于，包括以下步骤：将1,3,6,8-四乙炔基、二溴取代共聚单体和催化剂溶于溶剂中，在100℃以及惰性气体氛围的条件下搅拌反应48h，冷却至室温后过滤，将沉淀依次进行洗涤、纯化和干燥，得到所述共轭微孔聚合物；

所述二溴取代共聚单体为2,7-二溴-9H-芴、2,7-二溴-9芴酮或2,7-二溴菲-9,10-二酮；所述催化剂为Pd(PPh₃)₄和CuI；所述溶剂为DMF和Et₃N的混合物。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，1,3,6,8-四乙炔基、二溴取代共聚单体、Pd(PPh₃)₄、CuI、DMF和Et₃N的比例为1mmol：1mmol：0.03mmol：0.03mmol：15mL：3mL。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，洗涤具体为：依次采用CH₂Cl₂、THF、水和甲醇进行洗涤。

7.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，惰性气体为氮气。

8.权利要求1至3任一项所述的共轭微孔聚合物在光催化还原CO₂中的应用。

9.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，在λ420nm的辐照条件下，所述共轭微孔聚合物进行光催化还原CO₂时，CH₄的产率为403.8μmol h^-1g^-1-932.9μmol h^-1g^-1，CO的产率为545.1μmol h^-1g^-1-943.4μmol h^-1g^-1。

10.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，在λ600nm的辐照条件下，所述共轭微孔聚合物进行光催化还原CO₂时，CH₄的产率为259.5μmol h^-1g^-1-378.1μmol h^-1g^-1，CO的产率为278.8μmol h^-1g^-1-366.9μmol h^-1g^-1。