[发明专利]电极及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种电极，其特征在于，所述电极包括：

电极膜(10)；以及

集流体层(20)，其通过磁控溅射的方式设置在所述电极膜(10)的外表面上。

2.根据权利要求1所述的电极，其特征在于，所述电极膜(10)的厚度为10～1000μm，所述集流体层(20)的厚度为0.06～0.9μm。

3.根据权利要求1所述的电极，其特征在于，所述电极膜(10)为干法自支撑电极膜，且所述电极膜(10)中的活性物质为磷酸铁锂、锰酸锂、钴酸锂、镍锰酸锂、镍钴锰酸锂、镍钴铝酸锂、石墨、硬碳、硅/碳、锡、金属氧化物、金属硫化物、金属氮化物、金属磷化物、钛酸锂或硅的氧化物/碳中的一种或多种；

所述集流体层(20)的材料为铜和/或铝。

4.一种权利要求1至3中任一项所述的电极的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：采用磁控溅射的方式在电极膜的表面沉积集流体材料后对其进行压制，形成电极。

5.根据权利要求4所述的电极的制备方法，其特征在于，集流体材料的沉积厚度为0.1～1μm；

所述磁控溅射过程中的真空度为5×10^-4～5×10^-3Pa。

6.根据权利要求5所述的电极的制备方法，其特征在于，所述磁控溅射过程中的溅射功率为50～150W，溅射电压为50～100V，溅射时间为8～40min。

7.根据权利要求6所述的电极的制备方法，其特征在于，所述磁控溅射过程中的溅射气氛为氩气；氩气的流量为30～80sccm。

8.根据权利要求7所述的电极的制备方法，其特征在于，所述电极膜中的活性物质为磷酸铁锂、锰酸锂、钴酸锂、镍锰酸锂、镍钴锰酸锂或镍钴铝酸锂中的一种或多种时；

所述集流体材料为铝；

所述磁控溅射过程中的溅射功率为50～150W，溅射电压为50～100V，溅射时间为10～40min。

9.根据权利要求7所述的电极的制备方法，其特征在于，所述电极膜中的活性物质为石墨、硬碳、硅/碳、锡、金属氧化物、金属硫化物、金属氮化物、金属磷化物、钛酸锂或硅的氧化物/碳中的一种或多种时；

所述集流体材料为铜或铝；

所述磁控溅射过程中的溅射功率为50～100W，溅射电压为50～80V，溅射时间为8～30min。

10.一种权利要求1至3中任一项所述的电极，或者，由权利要求8或9所述的电极的制备方法制备得到的电极在锂离子电池、钠离子电池及超级电容器中的应用。