[发明专利]一种超声科用耦合剂防护清洁装置

权利要求书

1.一种超声科用耦合剂防护清洁装置，其特征在于，包括：

储液箱(1)，所述储液箱(1)前后两侧均设有一体式结构的连接腿(2)，并在连接腿(2)内安装有转动连接的清洁机构(3)，所述储液箱(1)内部开设有储液腔(10)，所述储液箱(1)内侧于储液腔(10)的上端开设有漏液口(11)，所述储液箱(1)底端安装有呈倾斜结构的刮除板(5)，所述储液箱(1)右端面中心位置固定有把手(6)，并在把手(6)的右侧设有橡胶套(7)，所述把手(6)右端以拆卸的方式安装在底座(8)上，并在底座(8)的底端设有吸盘(9)。

2.根据权利要求1所述的一种超声科用耦合剂防护清洁装置，其特征在于：所述清洁机构(3)包括连接轴(301)、第一组隔板(302)、第二组隔板(303)、螺栓槽(304)、清洁棉(305)和清理壳(306)，所述连接轴(301)后端安装有第一组隔板(302)，并在连接轴(301)的前端第二组隔板(303)，所述连接轴(301)上于第一组隔板(302)、第二组隔板(303)的内侧固定有清洁棉(305)。

3.根据权利要求2所述的一种超声科用耦合剂防护清洁装置，其特征在于：所述连接轴(301)前端设有滑动连接的清理壳(306)，并且清理壳(306)内端呈锥形结构，所述清理壳(306)内端对应于清洁棉(305)前端的锥形结构，位于第二组隔板(303)前端面开设有螺栓槽(304)，所述螺栓槽(304)内的限位螺栓(4)前端处于连接腿(2)的下侧位置。

4.根据权利要求1所述的一种超声科用耦合剂防护清洁装置，其特征在于：所述储液箱(1)后端底部设有封堵盖(12)，并且封堵盖(12)对应的进水口即为放水口，位于储液箱(1)左端面中心位置处设有水位窗(13)。

5.根据权利要求1所述的一种超声科用耦合剂防护清洁装置，其特征在于：所述储液腔(10)底端的漏液口(11)为弧形结构，并且漏液口(11)与清洁棉(305)之间设有间隔。

6.根据权利要求1所述的一种超声科用耦合剂防护清洁装置，其特征在于：所述漏液口(11)宽度小于清洁棉(305)的直径。

7.根据权利要求1所述的一种超声科用耦合剂防护清洁装置，其特征在于：所述把手(6)左端呈弧形结构，并且把手(6)右端呈水平结构。

8.根据权利要求1所述的一种超声科用耦合剂防护清洁装置，其特征在于：所述刮除板(5)底端呈倾斜结构，并且刮除板(5)的前后两端均设有防护板。

9.一种超声科用耦合剂防护清洁装置的工作步骤，采用1-8任一项所述的超声科用耦合剂防护清洁装置，其特征在于：包括以下步骤：

第一步：将整体装置的把手从底座(8)内拔出，然后打开封堵盖(12)，将酒精注入到储液腔(10)内，通过水位窗(13)来观察储液腔(10)内的酒精水位高度；

第二步：然后手握把手(6)通过刮除板(5)来将耦合剂刮除，然后将刮除板(5)内的耦合剂倾倒到垃圾桶内后；

第三步：将清洁机构(3)处于下端，刮除板(5)处于上端，酒精通过漏液口(11)落在清洁棉(305)上，使得酒精浸透清洁棉(305)的一部分；

第四步：通过限位螺栓(4)来对连接轴(301)固定，使得浸透酒精的清洁棉(305)来对擦拭部位进行清洁，然后转动清洁棉(305)，使得干燥的一部分来对清洁部位进行擦干处理，然后通过纸巾进行擦干处理；

第五步：通过对清理壳(306)在清洁棉(305)上进行推动，然后将清洁棉(305)上的酒精进行清理即可，然后将把手(6)安装在底座(8)上。