[发明专利]真空镀膜机的真空腔室表面处理加工工艺

权利要求书

1.真空镀膜机的真空腔室表面处理加工工艺，其特征在于，包括依次进行的如下工艺步骤：抛光处理或喷砂处理、水洗、硝酸酸洗、水洗擦净、超净间超纯水冲洗及超净间高纯氮吹干；

在所述抛光处理工序中，对真空腔室的密封面与真空腔室的其他内壁采用不同电解抛光液的顺次抛光处理方式；或对真空腔室的密封面采用抛光处理，对真空腔室的其他内壁采用喷砂处理；

真空腔室的密封面上固定设置低出气率的钛材料层。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜机的真空腔室表面处理加工工艺，其特征在于，所述抛光处理工序为电解抛光处理工序且包括密封面电解抛光工序、一次电解抛光工序与二次电解抛光工序。

3.根据权利要求2所述的真空镀膜机的真空腔室表面处理加工工艺，其特征在于，所述一次电解抛光液池与二次电解抛光液池的池深相同。

4.根据权利要求3所述的真空镀膜机的真空腔室表面处理加工工艺，其特征在于，所述真空腔室底端距离密封面的高度与一次电解抛光液池的池深相适配；密封面电解抛光液池的池深与真空腔室密封面的高度相适配。

5.根据权利要求1或4所述的真空镀膜机的真空腔室表面处理加工工艺，其特征在于，在所述超净间高纯氮吹干工序后还设置对真空镀膜机的真空腔室的真空烘烤工序。

6.根据权利要求5所述的真空镀膜机的真空腔室表面处理加工工艺，其特征在于，所述真空烘烤工序为将真空腔室放入真空烘烤炉内，真空腔室上端用不锈钢法兰密封，下端通过转接管道连接至真空烘烤炉外分子泵机组，然后进行不少于200h、190℃的烘烤除气，最后降温并真空保存。

7.根据权利要求6所述的真空镀膜机的真空腔室表面处理加工工艺，其特征在于，所述烘烤除气时在腔体外壁缠绕加热带，加热带的外面用铝箔包裹。

8.根据权利要求7所述的真空镀膜机的真空腔室表面处理加工工艺，其特征在于，所述当真空度达到约10^-3Pa时，开始给加热带逐渐通电加热，烘烤过程中关闭离子泵，同时也给离子泵通电进行加热烘烤，这时的真空腔体只靠分子泵和前级泵来排气；停止烘烤时，切断加热带和离子泵的烘烤电源；停止烘烤后对真空计也进行除气处理。

9.根据权利要求1或4所述的真空镀膜机的真空腔室表面处理加工工艺，其特征在于，在所述喷砂处理工序中，使用螺杆空压机输出压缩空气将喷料喷射到工件表面，螺杆空压机的原动机采用电动机，原动机上设置辅助驱动机构或者加速机构。

10.根据权利要求9所述的真空镀膜机的真空腔室表面处理加工工艺，其特征在于，在所述真空烘烤工序之后对真空镀膜机的真空腔室进行抽真空测试，在抽真空测试的同时还将抽出的空气通过通气管通入所述辅助驱动机构或者加速机构中；

所述原动机其输出轴的露出端上设置所述辅助驱动机构或者加速机构，所述辅助驱动机构或者加速机构包括固定连接在输出端上的环状风轮。