[发明专利]流体移转系统、发光二极管装置及制作方法、发光及显示设备

权利要求书

1.一种流体移转系统，其特征在于，包含：

主腔体，该主腔体内包含流体；

第一子腔体，该第一子腔体内包含液体将第一微型发光二极管包覆，且该第一子腔体具有第一阀门以与该主腔体连接；

第二子腔体，该第二子腔体内包含液体将第二微型发光二极管包覆，且该第二子腔体具有第二阀门以与该主腔体连接；

第三子腔体，该第三子腔体内包含液体将第三微型发光二极管包覆，且该第三子腔体具有第三阀门以与该主腔体连接；以及

基板，位于该主腔体内，该基板具有多个凹槽及多个磁力层位于各该凹槽，该些磁力层位于该基板内，并且裸露该些磁力层的部分。

2.根据权利要求1所述的流体移转系统，其中该些凹槽包含第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽、第一备援凹槽、第二备援凹槽及第三备援凹槽，其中各该第一备援凹槽、各该第二备援凹槽及各该第三备援凹槽中更具有备援磁力层，且各该磁力层及各该备援磁力层皆具有可程序化控制的功能。

3.一种流体移转系统，其特征在于，包含：

主腔体，该主腔体内包含流体；

第一子腔体，该第一子腔体内包含液体将第一微型发光二极管包覆，且该第一子腔体具有第一阀门以与该主腔体连接；

第二子腔体，该第二子腔体内包含液体将第二微型发光二极管包覆，且该第二子腔体具有第二阀门以与该主腔体连接；

第三子腔体，该第三子腔体内包含液体将第三微型发光二极管包覆，且该第三子腔体具有第三阀门以与该主腔体连接；以及

基板，位于该主腔体内，该基板具有多个凹槽、多个吸力层位于各该凹槽、基板第一阀门、基板第二阀门及基板第三阀门，其中该吸力层用以提供吸引力以捕捉该流体内的微型发光二极管，并且该吸引力包含电力吸引力、磁力吸引力、静电力吸引力、流体吸引力、空气吸引力、凡得瓦力吸引力、热力吸引力或附层吸引力。

4.一种流体移转系统，其特征在于，包含：

主腔体，该主腔体内包含流体；

第一子腔体，该第一子腔体内包含液体将第一微型发光二极管包覆，且该第一子腔体具有第一阀门以与该主腔体连接；

第二子腔体，该第二子腔体内包含液体将第二微型发光二极管包覆，且该第二子腔体具有第二阀门以与该主腔体连接；

第三子腔体，该第三子腔体内包含液体将第三微型发光二极管包覆，且该第三子腔体具有第三阀门以与该主腔体连接；以及

基板，位于该主腔体内，该基板具有多个凹槽及可程控的吸力层，其中该吸力层用以提供吸引力以捕捉该流体内的微型发光二极管，并且该吸引力包含电力吸引力、磁力吸引力、静电力吸引力、流体吸引力、空气吸引力、凡得瓦力吸引力、热力吸引力或附层吸引力。

5.一种流体移转系统，其特征在于，包含：

主腔体，该主腔体内包含流体；

第一子腔体，该第一子腔体内包含液体将第一微型发光二极管包覆，且该第一子腔体具有第一阀门以与该主腔体连接；

第二子腔体，该第二子腔体内包含液体将第二微型发光二极管包覆，且该第二子腔体具有第二阀门以与该主腔体连接；

第三子腔体，该第三子腔体内包含液体将第三微型发光二极管包覆，且该第三子腔体具有第三阀门以与该主腔体连接；以及

基板，位于该主腔体内，该基板具有多个凹槽、可程控的吸力层以及填充层覆盖该些凹槽，其中该吸力层用以提供吸引力以捕捉该流体内的微型发光二极管，并且该吸引力包含电力吸引力、磁力吸引力、静电力吸引力、流体吸引力、空气吸引力、凡得瓦力吸引力、热力吸引力或附层吸引力。