[发明专利]高灵敏度锑基反射式多碱光电阴极及其制备方法在审
| 申请号： | 202211128122.X | 申请日： | 2022-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN115513018A | 公开（公告）日： | 2022-12-23 |
| 发明（设计）人： | 王兴超;王亮;金睦淳;孙建宁;司曙光;任玲;周帆;张昊达;侯巍;纪路路;汤偲晨 | 申请（专利权）人： | 北方夜视科技（南京）研究院有限公司 |
| 主分类号： | H01J1/34 | 分类号： | H01J1/34;H01J9/12 |
| 代理公司： | 南京行高知识产权代理有限公司 32404 | 代理人： | 王培松;王菊花 |
| 地址： | 211106 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 灵敏度 反射 式多碱 光电 阴极 及其 制备 方法 | ||
1.一种高灵敏度反射式多碱阴极，其特征在于，包含基底层、阻隔层和阴极层三部分；所述基底层为金属镍片；
所述阻隔层为金属氧化物薄膜或金属氮化物薄膜；
所述阴极层为K-Na-Cs-Sb锑基多碱阴极；
其中，金属氧化物薄膜或金属氮化物薄膜的厚度为5nm～50nm。
2.一种如权利要求1所述的高灵敏度反射式多碱阴极的制备方法，其特征在于，先在基底镍片上预镀一层金属锑膜层，再进行碱金属激活。
3.如权利要求2所述高灵敏度反射式多碱阴极的制备方法，其特征在于，预镀的金属锑膜厚度为300nm～2000nm，且分多轮次镀膜，每轮次镀100nm～200nm，以防止脱膜。
4.如权利要求2所述高灵敏度反射式多碱阴极的制备方法，其特征在于，碱金属激活采用Na-K-Cs四阶段激活法，包含Na激活、K激活、Na补充和Cs激活四个阶段。
5.如权利要求2所述高灵敏度反射式多碱阴极的制备方法，其特征在于，Na-K-Cs四阶段激活法特征在于，先进行Na激活，再进行K激活，再进行Na的补充，使反射式多碱阴极的Na、K配比达到最优，以获得高灵敏度和高长波响应能力。
6.如权利要求2所述高灵敏度反射式多碱阴极的制备方法，其特征在于，引入碱金属Na激活阴极时阴极光电流达需达到25nA以上，且不超过35nA。
7.如权利要求2所述高灵敏度反射式多碱阴极的制备方法，其特征在于，在Na补充阶段，当光电流达到最大值并开始下降时，停止Na补充。
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