[发明专利]高力学强度聚合物薄膜、其制造方法和应用

权利要求书

1.一种高力学强度聚合物薄膜，其特征在于，所述聚合物薄膜包括质量百分比为95％～99％的聚酯和1％～5％的助剂，所述聚酯的数均分子量为13000Da～20000Da，且分子量小于5000Da的所述聚酯的分子数量占所述聚酯的分子数量总量的0.5％～5％，所述聚酯的分子量分布指数为1.6～2.4。

2.根据权利要求1所述的聚合物薄膜，其特征在于，所述聚合物薄膜的制造方法包括以下步骤：依次进行的第一纵向拉伸处理、横向拉伸处理和第二纵向拉伸处理；

可选地，所述第一纵向拉伸的工艺条件包括：第一纵向拉伸倍率(3.0～4.0)：1，第一纵向拉伸温度80℃～120℃；

可选地，所述横向拉伸的工艺条件包括：横向拉伸倍率(3.0～4.0)：1，横向拉伸温度90℃～140℃；

可选地，所述第二纵向拉伸的工艺条件包括：第二纵向拉伸倍率(1.1～1.3)：1，第二纵向拉伸温度80℃～120℃。

3.根据权利要求1～2任一项所述的聚合物薄膜，其特征在于，所述聚酯包括聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚对苯二甲酸1，4-环己烷二甲醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯-1，4-环己烷二甲醇酯、聚2，6-萘二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚2，6-萘二甲酸丁二酯、聚2，5-呋喃二甲酸丁二醇酯、聚己二酸对苯二甲酸丁二醇酯以及它们的衍生物中的一种或多种。

4.根据权利要求1～2任一项所述的聚合物薄膜，其特征在于，所述助剂包括爽滑剂、抗氧化剂、抗静电剂和成核剂中的一种或多种；

可选地，所述爽滑剂包括碳酸钙、滑石粉、硅藻土、丙烯酸酯、硅氧烷、二氧化钛、高岭土和二氧化硅中的一种或多种；

可选地，所述抗氧化剂包括膦酸酯和亚磷酸双酚A中的一种或多种；

可选地，所述抗静电剂包括导电纤维、聚乙二醇、丙三醇、聚醚酯、聚甘油、石墨和炭黑中的一种或多种；

可选地，所述成核剂包括碳酸钠、二苯甲酮、氧化锌、氧化铜、硬酯酸镁、磷酸三苯酯、氧化铝、氧化镁、硫酸钡、聚己内酯和苯甲酸钠中的一种或多种。

5.一种如权利要求1～4任一项所述的聚合物薄膜的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

将95％～99％聚酯和1％～5％助剂制成聚酯切片；

对聚酯切片依次进行结晶处理、干燥处理、熔融挤出处理、铸片处理、第一纵向拉伸处理、横向拉伸处理和第二纵向拉伸处理，制成聚合物薄膜。

6.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，包括以下特征(1)～(4)中的至少一种：

(1)所述结晶处理的工艺条件包括：结晶温度135℃～185℃，结晶时间20min～120min；

(2)所述干燥处理的工艺条件包括：干燥温度135℃～175℃，干燥时间120min～300min；

(3)所述熔融挤出处理的温度为270℃～290℃；

(4)所述铸片处理包括以下步骤：将所述熔融挤出处理的物料进行流延处理，之后进行冷却处理。

7.一种复合薄膜，其特征在于，包括支撑膜和金属富集层，所述支撑膜的至少一个表面附着有所述金属富集层，所述支撑膜包括权利要求1～4任一项所述的聚合物薄膜或权利要求5～6任一项所述的制造方法制得的聚合物薄膜。

8.根据权利要求7所述的复合薄膜，其特征在于，包括以下特征(1)～(3)中的至少一种：

(1)所述金属富集层的材料包括钛、银、铜、铝、镍、铜合金、铝合金和镍合金中的一种或多种；

(2)所述金属富集层的厚度为500nm～2000nm；

(3)所述支撑膜的厚度为1μm～20μm。

9.一种复合集流体，其特征在于，包括权利要求7～8任一项所述的复合薄膜。