[发明专利]一种用于光学系统的像质检测装置、方法、设备以及介质

权利要求书

1.一种用于光学系统的像质检测装置，其特征是：所述装置包括：第一跟踪转台、第二跟踪转台、安装框架、减振器和导轨；

所述第一跟踪转台和第二跟踪转台安装在导轨上，沿着导轨进行直线运动，安装框架下端与导轨相连接，减振器下端与安装框架的上端相连，减振器上端与飞机连接；第一和第二跟踪转台单元中的红外探测组件发现目标后，分别对目标进行跟踪。

2.根据权利要求1所述的一种用于光学系统的像质检测装置，其特征是：第一跟踪转台包括：红外探测器组件、四块库德镜、和球形转台；

红外探测器组件对目标设备进行判读，随后将判读信息发送给球形转台，球形转台带动红外探测器组件姿态变化完成对目标的实时跟踪；光束经过球形转台孔位进入，经四块库德镜的反射。

3.根据权利要求2所述的一种用于光学系统的像质检测装置，其特征是：第一跟踪转台还包括信标光发射单元，信标光发射单元包括：光纤和光学准直组件，光纤发射光，经过准直镜组件形成具有一定束散角的信标光，通过转台轴孔进入转台内部，经过四块库德镜的反射，信标光从转台中射出，通过红外探测器组件跟踪反馈调整球形转台改变光线出射的方向。

4.根据权利要求3所述的一种用于光学系统的像质检测装置，其特征是：四块库德镜的入射光均成45°，在三维空间呈正交关系，信标发射组件发光，光线通过四块库德镜穿过球形转台并随着转台方位轴和俯仰轴的旋转完成信标光发射。

5.根据权利要求4所述的一种用于光学系统的像质检测装置，其特征是：第一跟踪转台与第二跟踪转台结构相同。

6.根据权利要求5所述的一种用于光学系统的像质检测装置，其特征是：第一跟踪转台与第二跟踪转台的距离大于2m。

7.一种用于光学系统的像质检测方法，其特征是：包括以下步骤：

步骤1：根据红外探测器组件对目标设备进行判读，随后将信息发送给球形转台，球形转台带动红外探测器组件姿态变化完成对目标的实时跟踪；

步骤2：光束经过球形转台孔位进入，经四块库德镜的反射，信标光穿过球形转台完成信标光发射；

步骤3：光束经过球形转台孔位进入，通过转台轴孔进入转台内部，经过四块库德镜的反射，信标光从转台中射出，通过红外探测器组件跟踪反馈调整球形转台改变光线出射的方向。

8.根据权利要求7所述的一种用于光学系统的像质检测方法，其特征是：当跟踪转台发现主机后，对目标进行跟踪并对目标发射信标光，通过导轨移动转台相对位置，到达指定信标光测试间距要求后，对目标进行指向。

9.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征是：该程序被处理器执行，以用于实现如权利要求7-8任意一项权利要求所述的一种用于光学系统的像质检测方法。

10.一种计算机设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，其特征是：所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求7-8任意一项权利要求所述的一种用于光学系统的像质检测方法。