[发明专利]阵列基板、阵列基板的制备方法、显示面板及显示器

权利要求书

1.一种阵列基板，包括衬底、色阻层以及像素电极，所述色阻层设于所述衬底的一侧，所述像素电极设于所述色阻层上，其特征在于，所述色阻层背离所述衬底的一侧设有沟壑，所述沟壑的侧壁与所述衬底呈锐角设置，所述像素电极覆盖所述沟壑的表面。

2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述沟壑设有多条，多条所述沟壑形成枝状结构，所述像素电极在所述衬底的投影形状与多条所述沟壑形成的形状相同。

3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述像素电极的侧壁与所述衬底呈锐角设置。

4.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述沟壑的侧壁与衬底的锐角不同于所述像素电极的侧壁与所述衬底的锐角。

5.如权利要求1至4中任意一项所述的阵列基板，其特征在于，定义所述沟壑远离所述衬底的一侧的开口的宽度尺寸为D1，定义所述像素电极背离所述衬底的一侧在所述衬底上的投影宽度为D2，0.6≤D1/D2≤0.8。

6.一种基于如权利要求1至5中任意一项所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述阵列基板的制备方法包括：

准备衬底，在所述衬底上铺设色阻层；

利用光罩对所述色阻层进行蚀刻，以使色阻层上形成有沟壑，且所述沟壑的侧壁与所述衬底呈锐角设置；

铺设像素电极，并使所述像素电极覆盖所述沟壑的内表面。

7.如权利要求6所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述利用光罩对所述色阻层进行蚀刻，以使色阻层上形成有沟壑，且所述沟壑的侧壁与所述衬底呈锐角设置的步骤包括：

在所述色阻层上划分半透膜区；

利用半透膜光罩对所述半透膜区进行蚀刻，以使所述半透膜区形成有沟壑，且所述沟壑的侧壁与所述衬底呈锐角设置。

8.如权利要求6所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述铺设像素电极，并使所述像素电极覆盖所述沟壑的内表面的步骤之后包括：

对所述像素电极的侧壁进行蚀刻，以使所述像素电极的侧壁与所述衬底呈锐角设置。

9.一种显示面板，其特征在于，包括对置基板、液晶以及如权利要求1至5中任意一项所述的阵列基板，所述对置基板与所述阵列基板对盒设置，所述液晶夹设于所述对置基板与所述阵列基板之间。

10.一种显示器，其特征在于，包括背光模组和如权利要求9所述的显示面板，所述背光模组设于所述阵列基板背离所述对置基板的一侧。