[发明专利]一种负胶显影液及其制备方法

说明书

本发明公开了一种负胶显影液及其制备方法，所述负胶显影液主要由以下重量百分比的原料组成：KOH 0.02‑0.1％、非离子型表面活性剂0.1％‑2％、余量为水；非离子型表面活性剂为醇类和胺类芳香型聚合物的混合物；所述胺类芳香型聚合物的结构式如下：其中，R₁为氢、碳链为3‑16的烷基中的一种；R₂为氢、碳链为3‑16的烷基中的一种；n为1、2或3；m为7‑16之间的整数；X为‑O‑、中的一种。本发明所述显影液为一种可以减少金属杂质、显影规格更精细的显影液。

技术领域

本发明涉及显影液技术领域，具体涉及一种负胶显影液及其制备方法。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示屏(TFT-LCD)是显示技术的主流，整个产业可以分为上游基础材料、中游面板制造以及下游终端产品。其中，上游基础材料包括：玻璃基板、彩膜、偏振片、液晶、靶材等；中游面板制造包括：列阵(Array)、成盒(Cell)、模组(Module)；下游终端产品包括：电视、电脑、手机和其他消费类电子。

上游材料彩膜是LCD屏幕展现多彩画面的关键材料，为负性光刻胶，显影顺序是BM、R、G、B、PS，五种胶一般使用同一种显影液。负胶目前较多采用的显影液为0.02％-0.07％KOH、0.1％-0.4％表活、余量为水的配方。

公布号为CN106527065A的中国专利申请文献中公开了一种光刻胶显影液，包括水、非离子表面活性剂和无机碱，非离子表面活性剂包括蓖麻油聚氧乙烯醚和脂环型物质，得到的显影液显影时具有更缓和的显影速度和宽的适用范围；公布号为CN108594606A的中国专利申请文献提供了一种：KOH 3％wt、Na₂SiO₃ 5％wt、AEO09 20％wt、余量为水的显影液，显示范围宽，可操作窗口大，且显影效果良好，并且显影精度高。但是随着人们对终端产品的成像分辨率及画质饱和度要求越来越高，现有的显影液难以高效除去彩膜中的金属离子杂质，同时影响到显影精度，现有面板厂行业急需提供一种线条更精细、表面更洁净的CF基板。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于提供一种可以将彩膜表面金属离子减少、精度更优的显影液，其具有高产线良率。

本发明通过以下技术手段实现解决上述技术问题：

一种负胶显影液，主要由以下重量百分比的原料组成：KOH 0.02-0.1％、非离子型表面活性剂0.1％-2％、余量为水；其中，所述非离子型表面活性剂为醇类和胺类芳香型聚合物的混合物；所述胺类芳香型聚合物的结构式如下：

其中，R₁为氢、碳链为3-16的烷基中的一种；R₂为氢、碳链为3-16的烷基中的一种；n为1、2或3；m为7-16之间的整数；X为-O-、中的一种。

有益效果：该发明具体加入了胺类芳香型聚合物与醇类物质进行复合，得到的配方可以有效减少体系中金属离子含量，提高显影效果，提升显影精度，主要机理作用来自非离子型聚合物，有效溶解显影下来的彩膜，吸附金属离子形成络合物。

优选地，所述醇类的质量小于所述胺类芳香型聚合物的质量。

优选地，所述醇类为乙醇、丙醇、异丙醇中的一种或多种的混合物。

优选地，所述胺类芳香型聚合物的结构式中，R₁为氢；R₂为正辛基；n为1；X为-O-或

优选地，所述胺类芳香型聚合物的结构式为中的一种。

优选地，所述胺类芳香型聚合物的制备工艺包括以下步骤：

S1、将KOH水溶液加入反应装置中，加入对氯苯酚、4-氯苯甲酸中的一种和辛胺，在85-90℃下搅拌1-2h，得到物料A；