[发明专利]用于控制物理或化学过程的系统、设备和方法

权利要求书

1.一种用于控制物理或化学过程的方法（400），其中已知的测量点中的每个测量点都具有所述物理或化学过程的至少一个输入参量的输入参数值和所述物理或化学过程的至少一个输出参量的被分配给所述输入参数值的输出值，而且其中第一后验模型描述了与所述物理或化学过程相关的另一过程的至少一个输入参量与至少一个输出参量之间的关系，所述方法具有：

• 在包含所述第一后验模型的情况下确定（402）第二后验模型，其中所述第二后验模型描述了所述物理或化学过程的至少一个输入参量与至少一个输出参量之间的关系，其中所述确定（402）具有：

o 确定（402A）具有共同的协方差函数的多个高斯过程，其中每个高斯过程都通过如下方式来确定：从所述第一后验模型中提取函数并且所述函数形成所述高斯过程的预期值，而且

■ 将先验模型确定为所述多个高斯过程的平均值并且借助于在使用已知的测量点的情况下对模型的超参数的优化来确定所述第二后验模型，使得所述第一后验模型的协方差函数的至少一个超参数保持不变，并且将所述模型调节到所述已知的测量点（402B），或者

■ 将所述多个高斯过程中的每个高斯过程都调节到所述已知的测量点并且将所述第二后验模型确定为经过调节的多个高斯过程的平均值（402B）；而且

• 在使用所述第二后验模型的情况下控制所述物理或化学过程（404）。

2.根据权利要求1所述的方法（400），所述方法还具有：

• 依据所述第二后验模型借助于采集函数来选择所述物理或化学过程的至少一个输入参量的新的输入参数值；

• 测量所述至少一个输出参量的被分配给所述新的输入参数值的输出值，其中所选择的新的输入参数值和所测量的新的输出值形成新的测量点；而且

• 在使用所述新的测量点的情况下使所述第二后验模型适配，其中经过适配的第二后验模型针对所述已知的测量点以及所述新的测量点来描述所述物理或化学过程；

• 其中所述物理或化学过程在使用经过适配的第二后验模型的情况下被控制。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的方法（400），

其中第三后验模型描述与所述物理或化学过程相关的又另一过程的至少一个输入参量和至少一个输出参量之间的关系，而且其中已知的其它测量点中的每个其它测量点都具有所述另一过程的至少一个输入参量的输入参数值和所述另一过程的至少一个输出参量的被分配给所述输入参数值的输出值，其中所述方法具有：

• 在包含所述第三后验模型的情况下确定所述第一后验模型，其具有：

o 确定具有另一共同的协方差函数的多个其它高斯过程，其中每个其它高斯过程都通过如下方式来确定：从所述第三后验模型中提取函数并且所述函数形成所述高斯过程的预期值，而且

■ 将另一先验模型确定为所述多个其它高斯过程的平均值，并且借助于将所述另一先验模型调节到所述已知的其它测量点来确定所述第一后验模型，或者

■ 将所述多个其它高斯过程中的每个其它高斯过程调节到所述已知的其它测量点并将所述第一后验模型确定为经过调节的多个其它高斯过程的平均值。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法（400），

其中在使用所述第二后验模型的情况下对所述物理或化学过程的控制（404）具有：

• 确定所述至少一个输入参量的输入参数值，所述输入参数值按照所述第二后验模型被分配给所述物理或化学过程的至少一个输出参量的所希望的输出值；

• 按照所确定的输入参数值来确定所述物理或化学过程。

5.一种设备（208），所述设备被设立为执行根据权利要求1至4中任一项所述的方法（400）。