[发明专利]一种全有机三明治结构电介质薄膜及其制备方法在审
申请号: | 202211183368.7 | 申请日: | 2022-09-27 |
公开(公告)号: | CN115547687A | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
发明(设计)人: | 徐菊;曹诗沫;佟辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电工研究所 |
主分类号: | H01G4/14 | 分类号: | H01G4/14;H01G4/33 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 霍苗 |
地址: | 100190 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 有机 三明治 结构 电介质 薄膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种全有机三明治结构电介质薄膜,其特征在于,包括有机基膜(2)以及分别层叠设置于所述有机基膜(2)上表面的第一涂层膜(1)和下表面的第二涂层膜(3);所述第一涂层膜(1)和第二涂层膜(3)为派瑞林聚合物膜。
2.根据权利要求1所述全有机三明治结构电介质薄膜,其特征在于,所述有机基膜(2)包括双向拉伸聚丙烯膜、聚酰亚胺膜、聚醚酰亚胺膜、聚丙烯膜、聚醚醚酮膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚对萘二甲酸乙二醇酯膜、聚偏二氟乙烯膜、聚碳酸酯膜、聚苯硫醚膜、聚四氟乙烯膜、聚乙烯膜、聚苯乙烯膜、聚氯乙烯膜、聚二甲基硅氧烷膜、可溶性聚四氟乙烯膜或聚氨酯膜。
3.根据权利要求1所述全有机三明治结构电介质薄膜,其特征在于,所述第一涂层膜(1)和第二涂层膜(3)独立地为C型派瑞林聚合物膜、N型派瑞林聚合物膜、D型派瑞林聚合物膜或F型派瑞林聚合物膜。
4.根据权利要求1~3任一项所述全有机三明治结构电介质薄膜,其特征在于,所述有机基膜(2)、第一涂层膜(1)和第二涂层膜(3)的厚度独立的为0.01~50μm。
5.权利要求1~4任一项所述的全有机三明治结构电介质薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
采用化学气相沉积聚合,以派瑞林聚合物前驱体为原料,在所述有机基膜(2)的上表面和下表面分别制备第一涂层膜(1)和第二涂层膜(3),得到所述全有机三明治结构电介质薄膜。
6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述派瑞林聚合物前驱体独立地包括二氯对二甲苯二聚体派瑞林C、对二甲苯二聚体派瑞林N、四氯对二甲苯二聚体派瑞林D和八氟对二甲苯二聚体派瑞林F中的任意一种。
7.根据权利要求5或6所述的制备方法,其特征在于,所述化学气相沉积聚合包括以下步骤:
将所述派瑞林聚合物前驱体加热进行升华,得到前驱体气体;
将所述前驱体气体加热进行裂解,得到气态单体;
将所述气体单体降温分别在所述有机基膜(2)的上表面和下表面沉积聚合得到第一涂层膜(1)和第二涂层膜(3)。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述升华的温度为120~160℃;所述升华时环境的压力为0.2~5托。
9.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述裂解的温度为600~900℃;所述裂解时环境的压力为0.1~2托。
10.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述沉积聚合的温度为25~60℃;所述沉积聚合在真空条件下进行,所述沉积聚合的真空度为0.1~3Pa。
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