[发明专利]相机调焦装置及空间相机在审
申请号: | 202211184534.5 | 申请日: | 2022-09-27 |
公开(公告)号: | CN115480354A | 公开(公告)日: | 2022-12-16 |
发明(设计)人: | 胡宝义;高恩宇;姜秀鹏;阎凯 | 申请(专利权)人: | 北京微纳星空科技有限公司;北京国宇星空科技有限公司;安徽微纳星空科技有限公司;海南微纳星空科技有限公司;陕西国宇星空科技有限公司 |
主分类号: | G02B7/04 | 分类号: | G02B7/04;G02B7/02;G03B17/12;G03B13/32 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 曾静 |
地址: | 100000 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 相机 调焦 装置 空间 | ||
本申请涉及航空航天技术领域,具体而言,涉及一种相机调焦装置及空间相机,包括次镜框架、次镜镜体和压电陶瓷位移平台,在第一方向上所述次镜框架、所述压电陶瓷位移平台和所述次镜镜体依次固定连接,在所述第一方向上所述压电陶瓷位移平台的一端用于连接第一电极,所述压电陶瓷位移平台的另一端用于连接第二电极,所述第一电极和所述第二电极极性相反,所述第一方向为所述次镜镜体的轴向。本申请的目的在于针对背景技术中所涉及的至少一种技术问题,提供一种相机调焦装置及空间相机。
技术领域
本申请涉及航空航天技术领域,具体而言,涉及一种相机调焦装置及空间相机。
背景技术
近年来,随着科学技术的发展,对苛刻的发射环境和空间环境下空间相机的可靠性和精度要求越来高,航天相机在运输和发射过程中会受到振动冲击,在轨工作时空间温度复杂多变,空间重力场是不同于地球表面的微重力环境,这些因素都可能导致相机的成像面与焦平面不重合,即产生不同程度的离焦,从而导致成像质量下降。
为保证相机成像质量,需要在相机系统中加入调焦机构,采用相应的调焦机构来微调光学系统中光线成像的位置,补偿CCD的离焦量,使星下点目标准确成像在CCD感光面上,以修正这种离焦,有利于光学遥感器在恶劣的环境下可靠地工作。
目前,次镜调焦方式也开始应用,次镜调焦相对于三镜或焦面调焦,调整的位移量小,一般在0.3mm以内,所以需要更精细的位移控制精度。国内常用的次镜调焦方式是热控调焦,热控调焦方式虽然有很多优点,但是也存在着一些客观缺点:热控调焦需要长期加热,热量会传导到次镜,而次镜对变形非常敏感,附加的热载荷可能会引起次镜的变形从而影响成像质量;热控调焦需要长期加热,功耗相对较大。
发明内容
本申请的目的在于针对背景技术中所涉及的至少一种技术问题,提供一种相机调焦装置及空间相机。
为了实现上述目的,本申请采用以下技术方案:
本申请的一个方面提供一种相机调焦装置,包括次镜框架、次镜镜体和压电陶瓷位移平台,在第一方向上所述次镜框架、所述压电陶瓷位移平台和所述次镜镜体依次固定连接,在所述第一方向上所述压电陶瓷位移平台的一端用于连接第一电极,所述压电陶瓷位移平台的另一端用于连接第二电极,所述第一电极和所述第二电极极性相反,所述第一方向为所述次镜镜体的轴向。
可选地,还包括所述次镜框架,所述次镜框架包括底板和安装于所述底板的护板,所述底板与所述护板围合成安装腔,所述压电陶瓷位移平台位于所述安装腔内,所述次镜镜体的一端伸入所述安装腔内,所述次镜框架具有与所述安装腔连通的开口,所述次镜镜体的另一端从所述开口伸出。
该技术方案的有益效果在于:这样,通过底板和护板可以对压电陶瓷移动平台和次镜伸入安装腔内的一端形成一定防护。
可选地,还包括位于所述安装腔内的次镜定位槽体,所述次镜定位槽体的槽口与所述开口的朝向相同,所述次镜定位槽体与所述压电陶瓷位移平台在所述第一方向上固定连接,所述次镜镜体的一端为连接端,所述连接端固定于所述次镜定位槽体内。
该技术方案的有益效果在于:这样,一方面压电陶瓷位移平台伸入次镜定位槽体的一端可以进一步受到次镜定位槽体的保护,另一方面次镜镜体可以通过次镜定位槽体间接的与压电陶瓷位移平台连接,避免电磁陶瓷位移平台与次镜镜体直接连接可能对次镜镜体造成的破坏。
可选地,所述次镜定位槽体与所述压电陶瓷位移平台通过螺钉连接,和/或,所述压电陶瓷移动平台与所述次镜框架通过螺钉连接。
该技术方案的有益效果在于:这使次镜定位槽体与压电陶瓷位移平台之间的连接不易失效,及使次镜框架与压电陶瓷位移平台之间的连接不易失效。
可选地,所述次镜定位槽体采用殷钢制作。
该技术方案的有益效果在于:殷钢随温度的变形极小,减小设置次镜定位槽体对调焦精度产生的不利影响。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京微纳星空科技有限公司;北京国宇星空科技有限公司;安徽微纳星空科技有限公司;海南微纳星空科技有限公司;陕西国宇星空科技有限公司,未经北京微纳星空科技有限公司;北京国宇星空科技有限公司;安徽微纳星空科技有限公司;海南微纳星空科技有限公司;陕西国宇星空科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211184534.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。