[发明专利]一种高熵高强度耐磨的陶瓷材料的制备方法及在齿科修复中的应用

权利要求书

1.一种高熵高强度耐磨的陶瓷材料，其特征在于：所述陶瓷材料的化学式为：(Mg_aTi_bGd_cNd_dY_eHf_f)B₁₂；其中，a、b、c、d和e均在0.05-0.35之间，且a+b+c+d+e+f=1。

2.一种如权利要求1所述的高熵高强度耐磨的陶瓷材料，其特征在于：所述制备方法为：

（1）按将MgO，Ti₂O₃，Y₂O₃，Gd₂O₃，Nd₂O₃，HfO₂和单质硼粉混合均匀，然后置于石墨模具中，在真气氛炉中，真空条件下高温反应得到(Mg_aTi_bGd_cNd_dY_eHf_f)B₁₂粉体，（2）将(Mg_aTi_bGd_cNd_dY_eHf_f)B₁₂粉体加入到球磨机中球磨，然后将球磨后粉体放置于石墨模具中，在放电等离子烧结炉进行放电等离子烧结，得到(Mg_aTi_bGd_cNd_dY_eHf_f)B₁₂高熵高强度耐磨的陶瓷材料，其中C、O杂质的总含量≦0.05%。

3.根据权利权利要求2所述的高熵高强度耐磨的陶瓷材料的制备方法，其特征在于：所述（1）中MgO，Ti₂O₃，Y₂O₃，Gd₂O₃，Nd₂O₃，HfO₂和单质硼粉的摩尔比为（0.05-0.35）:（0.05-0.35）:（0.05-0.35）:（0.05-0.35）:（0.05-0.35）:12.6-13.5。

4.根据权利权利要求2所述的高熵高强度耐磨的陶瓷材料的制备方法，其特征在于：所述（1）中MgO，Ti₂O₃，Y₂O₃，Gd₂O₃，Nd₂O₃，HfO₂和单质硼粉的粒径均为10-100 um，质量纯度均≧99.9%。

5.根据权利权利要求2所述的高熵高强度耐磨的陶瓷材料的制备方法，其特征在于：所述（1）中混合的方法为：在球磨罐中将物料进行球磨，以ZrO₂为球磨珠，球磨罐转速为60-180 r/min，球磨时间为10-48h。

6.根据权利权利要求2所述的高熵高强度耐磨的陶瓷材料的制备方法，其特征在于：所述（1）中高温反应的方法为：控制真空煅烧炉的真空度≦300Pa，升温速度为5-20℃/min，升温至1500-1700 ℃，保温时间为15-60min。

7.根据权利权利要求2所述的高熵高强度耐磨的陶瓷材料的制备方法，其特征在于：所述（2）中球磨后粉体的粒径为5-20 um。

8.根据权利权利要求2所述的高熵高强度耐磨的陶瓷材料的制备方法，其特征在于：所述（2）中放电等离子烧结的方法为：真空度≦300Pa，升温速度为80-120℃/min，烧结温度为1500-1700℃，在烧结温度下保温5-15min。

9.一种如权利权利要求1所述的高熵高强度耐磨的陶瓷材料在全瓷牙科材料和齿科修复中的应用。