[发明专利]用于对衬底的表面的至少一个区域或区段改性的方法和衬底

权利要求书

1.一种用于对衬底的表面和/或区段的至少一个区域物理改性的方法，其中所述衬底包括多组分玻璃，所述方法至少包括以下步骤：

–提供具有用于产生粒子束的辐射源的装置，

–提供衬底，

–将所述衬底输送给所述装置并且施加真空，

–通过施加粒子束对所述衬底的表面的区域和/或区段改性。

2.根据前一项权利要求所述的用于改性的方法，其特征在于，所述衬底包括至少两种不同阳离子的氧化物，并且其中所述衬底是光学玻璃、光电陶瓷或玻璃陶瓷，

优选地，所述衬底包括光学冕玻璃和燧石玻璃，尤其选自包括硅、硼、铝、磷、氟、镧、钛、钡和/或铌的冕玻璃或燧石玻璃的组别，

优选地，所述衬底包括以下组成部分(以氧化物为基础的重量％)：

。

3.根据前述权利要求中任一项所述的用于改性的方法，其特征在于折射率n_d，对于587.6nm波长的折射率在1.45至2.45的范围中、优选在1.50至2.40的范围中、更优选地在1.55至2.35的范围中、更优选地在1.60至2.30的范围中、更优选地在1.65至2.25的范围中、更优选地在1.70至2.20的范围中。

4.根据前述权利要求中任一项所述的用于改性的方法，其特征在于，所述衬底在波长450nm和10mm的试样厚度下具有至少80％、尤其至少85％或至少90％、特别优选至少95％的内透射率。

5.根据前述权利要求中任一项所述的用于改性的方法，其特征在于，在提供之前将所述衬底从锭或块整体中分离出来，包括以下加工步骤中的至少一个：

–从锭中钻出圆柱体，

–从圆柱体中分离出衬底，

–将边缘研磨到期望的晶圆直径，

–引入边缘的刻面，

–施加位置标记，

–可选地精加工衬底的至少一个表面。

6.根据前述权利要求中任一项所述的用于改性的方法，其特征在于，所述衬底具有0.2mm和2mm之间、优选0.3mm和1mm之间、优选地0.4mm和0.75mm之间的厚度，其中所述衬底的厚度小于所述衬底的横向伸展。

7.根据前述权利要求中任一项所述的用于改性的方法，其特征在于，所述衬底构造成旋转对称的并且具有为0.7cm和50cm之间的直径、优选3cm至45cm，特别优选相应于2英寸晶圆或50.8mm、3英寸晶圆或76.2mm、4英寸晶圆或100mm、5英寸晶圆或125mm、6英寸晶圆或150mm、8英寸晶圆或200mm、12英寸晶圆或300mm或18英寸晶圆或450mm的直径。

8.根据前述权利要求中任一项所述的用于改性的方法，其特征在于，所述衬底或在横向方向上限定所述衬底的表面满足以下特征值中的至少一个：

–总厚度变化TTV：＜＝10μm，

–局部斜率：＜＝1arcmin，

–翘曲：＜＝100μm，

–弓形：-100μm＜＝弓形＜＝100μm，

–粗糙度：R_q＜＝10μm。

9.根据前述权利要求中任一项所述的用于改性的方法，其特征在于，所述衬底包括第一表面和相对置的第二表面，其中两个表面构造成平的，或其中至少一个表面凹形或凸形地构造。