[发明专利]喷镀材料

说明书

本发明提供：在形成喷镀膜时不会进行细粉化而发生喷溅现象等、具有耐腐蚀性、耐剥离性等优异的性能、且喷镀膜形成性优异的硅酸钙质喷镀材料。提供一种喷镀用材料，对于硅酸钙质喷镀材料，使用X射线衍射法测定的晶相的衍射强度中，在2θ＝30.75～31.35下检测到的β‑Ca₂SiO₄的单一峰衍射强度与在2θ＝20.25～20.85下检测到的γ‑Ca₂SiO₄的单一峰衍射强度的峰比率(β‑Ca₂SiO₄/γ‑Ca₂SiO₄)大于1。

技术领域

本发明涉及金属、陶瓷、金属陶瓷等的表面的喷镀膜的形成中使用的喷镀材料。

背景技术

喷镀膜通过对基材喷镀喷镀材料而形成。喷镀膜根据喷镀材料的特性而被用于各种用途。作为喷镀膜的应用例，可广泛应用于汽车引擎、航空器引擎、半导体制造装置、钢板的输送用辊、一般工业产业中的耐磨耗用途等要求耐磨耗、耐热、耐腐蚀性的各种应用。

一直以来，对新型喷镀材料的开发进行了各种研究。例如，专利文献1中提出了对γ-2CaO/SiO₂粉末进行喷雾造粒而制造的硅酸钙质喷镀材料。该方法中，对浆料进行造粒来制作喷镀材料，所述浆料是使对γ-2CaO/SiO₂进行烧结合成的材料湿式粉碎而成的，但存在浆料粘度因材料所包含的水合活性物质而变得不稳定、浆料会固化的问题。另外，对原料进行造粒后进行γ-2CaO/SiO₂的烧结合成时，在烧结合成的冷却过程中，在550℃附近从β相转变为γ相。从β相向γ相的转变会伴随剧烈的体积变化，发生组织崩解，由此材料中会产生缺陷，因此粒度分布发生细粉化，从而成为喷镀膜形成时发生喷溅的主要原因。

需要说明的是，喷溅是指，过熔融的喷镀用粉末在喷镀装置的喷嘴内壁附着沉积而成的沉积物混入至喷镀膜的现象，喷镀用粉末包含越多微细颗粒，则越容易发生喷溅。发生喷溅时，喷镀膜的组织结构会变得不均匀，因此喷镀膜的品质显著降低。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特公平7-100847号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明的目的在于提供：在形成喷镀膜时能够抑制喷溅现象的产生的喷镀膜形成性优异的硅酸钙质喷镀材料。

用于解决问题的方案

本发明提供：硅酸钙质喷镀材料中，使用X射线衍射法测定的晶相的衍射强度中，在2θ＝30.75～31.35下检测到的β-Ca₂SiO₄的单一峰衍射强度与在2θ＝20.25～20.85下检测到的γ-Ca₂SiO₄的单一峰衍射强度的峰比率(β-Ca₂SiO₄/γ-Ca₂SiO₄)大于1的喷镀用材料。峰比率(β-Ca₂SiO₄/γ-Ca₂SiO₄)大于1的技术构思也包括在未检测到γ-Ca₂SiO₄的峰、其实质上为0时，检测到β-Ca₂SiO₄的峰的情况。

硅酸钙质材料具有CaO-SiO₂系的组成，但本发明中使用2CaO-SiO₂系组成的材料。2CaO-SiO₂系硅酸钙质材料具有若干种晶相(α、α′、β及γ)，但在常温常压下具有γ相作为稳定的晶相。