[发明专利]一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法及系统

说明书

本发明提供了一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法及系统，涉及数据处理技术领域，通过根据当前生产工序信息确定污染物监测特征、监测手段信息；根据监测手段信息对生产工序过程进行监测获得监测信息，当存在污染物时根据监测结果生成提醒信息；当监测结果不存在污染物时，将监测结果、当前生产工序信息录入生产链中，基于生产链进行生产全过程污染物影响预测，当存在污染物影响时生成污染监测提醒信息。解决现有通过后道工序进行缺陷检测，缺乏在生产过程中的有效监测手段，存在缺陷发现不及时而影响产品品质和造成资源浪费的技术问题。达到实时监测并预测，及时发现异常，提高掩膜版品质同时避免资源的加工浪费的技术效果。

技术领域

本发明涉及数据处理技术领域，具体涉及一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法及系统。

背景技术

掩膜版的制造流程分为前道工艺和后道工艺。前道工艺主要包括图像产生、显影、蚀刻、脱膜和尺寸测量，前道工艺完成后一片掩膜版的图形制作部分已经完成。后道工艺主要包括缺陷检查、缺陷修补、清洗和加保护膜。在集成电路制造过程中，一个完整的芯片一般需要经过十几到三十几次的光刻，在这么多次光刻中，都需要使用到掩膜版，其目的是将掩膜版上的图形转移到晶圆上。掩膜版在生产过程中由于环境灰尘、操作问题等都可能对其质量产生影响，污染物主要包括了微尘、金属粒子残留、胶残留等。

现有技术中主要通过后道工序进行缺陷检测，缺乏在生产过程中的有效监测手段，存在缺陷发现不及时而影响产品品质和造成资源浪费的技术问题。

发明内容

为了解决上述问题，本申请通过提供了一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法及系统，解决了现有技术中主要通过后道工序进行缺陷检测，缺乏在生产过程中的有效监测手段，存在缺陷发现不及时而影响产品品质和造成资源浪费的技术问题。达到了通过对掩膜版生产过程中的实时监测，避免污染物对掩膜版成品造成影响，及时发现可以进行对应的调整处理，提高掩膜版品质同时避免资源的加工浪费的技术效果。

鉴于上述问题，本申请提供了一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法及系统。

一方面，本申请提供了一种掩膜版生产过程中的污染物监测方法，所述方法包括：获得当前生产工序信息；根据所述当前生产工序信息在工序污染物数据库进行工序匹配，确定工序污染物信息集；基于所述工序污染物信息集进行污染物特征分析，得到污染物监测特征、监测手段信息；根据所述监测手段信息对生产工序过程进行监测，获得监测信息，并基于所述污染物监测特征对所述监测信息进行遍历，确定监测结果；当所述监测结果存在污染物时，且污染物满足污染物设定要求时，根据所述监测结果生成提醒信息；当未达到污染物设定要求时，将所述监测结果、所述当前生产工序信息录入生产链中，所述生产链为根据生产工序过程构建的生产数据链；基于所述生产链进行生产全过程污染物影响预测，当存在污染物影响时，生成污染监测提醒信息。

另一方面，本申请提供了一种掩膜版生产过程中的污染物监测系统，所述系统包括：

工序获得单元，用于获得当前生产工序信息；

污染物信息确定单元，用于根据所述当前生产工序信息在工序污染物数据库进行工序匹配，确定工序污染物信息集；

监测特征分析单元，用于基于所述工序污染物信息集进行污染物特征分析，得到污染物监测特征、监测手段信息；

监测处理单元，用于根据所述监测手段信息对生产工序过程进行监测，获得监测信息，并基于所述污染物监测特征对所述监测信息进行遍历，确定监测结果；

工序污染提醒单元，用于当所述监测结果存在污染物时，且污染物满足污染物设定要求时，根据所述监测结果生成提醒信息；

全生产工序分析单元，用于当未达到污染物设定要求时，将所述监测结果、所述当前生产工序信息录入生产链中，所述生产链为根据生产工序过程构建的生产数据链；

全过程污染预测单元，用于基于所述生产链进行生产全过程污染物影响预测，当存在污染物影响时，生成污染监测提醒信息。