[发明专利]一种具有自清理功能的静电颗粒收集系统和方法在审
申请号: | 202211260074.X | 申请日: | 2022-10-14 |
公开(公告)号: | CN115692260A | 公开(公告)日: | 2023-02-03 |
发明(设计)人: | 朱小庆;卢浩;孟庆国;刘帅;刘小波;胡冬冬;许开东 | 申请(专利权)人: | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;B03C3/04;B03C3/80 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 陈月菊 |
地址: | 221399 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 清理 功能 静电 颗粒 收集 系统 方法 | ||
1.一种具有自清理功能的静电颗粒收集系统,其特征在于,所述静电颗粒收集系统包括中压闸阀、静电吸附网、氮气管路、静电发生器、压力计、真空发生器和控制器;所述中压闸阀、氮气管路、静电发生器、压力计、真空发生器均与控制器连接;
所述静电吸附网水平安装在腔室本体和APC阀之间的通道内,腔室本体临近静电吸附网的底部上安装有中压闸阀,中压闸阀用于根据控制器的控制指令切换腔室本体和通道之间的连通状态;所述静电发生器与静电吸附网连接,为静电吸附网提供不同等级的静电电压;所述压力计安装在通道内,用于实时检测通道内的气压值,将检测到的气压值反馈给控制器;所述真空发生器和氮气管路分别连通至通道;
半导体制备工艺结束后,控制器开启中压闸阀,关闭APC阀,使腔室本体和通道切换为连通状态,采用静电发生器持续施加与半导体制备工艺相适配的正向静电电压在静电吸附网上,使腔室本体内的悬浮颗粒在电场作用下吸附在静电吸附网上;
当正向静电电压施加时长达到第一预设时长时,关闭中压闸阀,隔绝腔室本体和通道,采用静电发生器持续施加反向静电电压在静电吸附网上,同时打开氮气管路,使静电吸附网上的部分颗粒在反向电压和气压的双重作用下脱离静电吸附网,并悬浮在通道内;
当反向静电电压施加时长达到第二预设时长且通道内的气压达到大气压力时,关闭氮气通道,启动真空发生器,使静电吸附网上的剩余悬浮颗粒脱离静电吸附网,同时使所有悬浮在通道内的颗粒随氮气一起排出通道,直至通道内的气压达到第一真空气压;开启APC阀,采用腔室本体的真空排气系统对通道内的悬浮颗粒进行再排除处理,直至通道内的气压达到第二真空气压,关闭APC阀,关闭真空排气系统,关闭静电发生器,开启中压闸阀。
2.根据权利要求1所述的具有自清理功能的静电颗粒收集系统,其特征在于,所述第一预设时长、第二预设时长与半导体制备工艺中产生的悬浮颗粒类型、数量相关。
3.根据权利要求1所述的具有自清理功能的静电颗粒收集系统,其特征在于,所述静电发生器施加在静电吸附网上的静电电压的取值范围为-5000V~5000V。
4.根据权利要求1所述的具有自清理功能的静电颗粒收集系统,其特征在于,所述气压计采用皮拉尼真空规。
5.根据权利要求1所述的具有自清理功能的静电颗粒收集系统,其特征在于,所述静电吸附网上安装有振动电机,振动电机与控制器连接,用于对静电吸附网进行振动。
6.根据权利要求1所述的具有自清理功能的静电颗粒收集系统,其特征在于,所述静电吸附网采用银、铜或者不锈钢材质制成。
7.根据权利要求1所述的具有自清理功能的静电颗粒收集系统,其特征在于,所述静电吸附网的表面经阳极氧化处理以形成绝缘且抗腐蚀的保护层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造