[发明专利]一种避免异常放电的钛靶材及其加工方法在审

专利信息
申请号: 202211261698.3 申请日: 2022-10-14
公开(公告)号: CN115572952A 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 姚力军;潘杰;王学泽;苏阳能 申请(专利权)人: 宁波江丰电子材料股份有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;B23P15/00;B24C1/06
代理公司: 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 代理人: 韩承志
地址: 315400 浙江省宁波市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 避免 异常 放电 钛靶材 及其 加工 方法
【权利要求书】:

1.一种避免异常放电的钛靶材,其特征在于,所述钛靶材包括依次连接的溅射面、侧面以及喷砂凹槽;

所述喷砂凹槽包括第一凹槽和第二凹槽;

所述第一凹槽的深度为4.5-5.5mm。

2.根据权利要求1所述的钛靶材,其特征在于,所述侧面通过第一倒角与溅射面相连;

优选地,所述第一倒角的半径为1.5-2.5mm。

3.根据权利要求1或2所述的钛靶材,其特征在于,所述侧面为斜面;

优选地,所述侧面与溅射面的夹角为115-135°。

4.根据权利要求1-3任一项所述的钛靶材,其特征在于,所述第一凹槽与侧面的夹角为105-115°。

5.根据权利要求1-4任一项所述的钛靶材,其特征在于,所述第一凹槽的宽度为9.0-10.0mm。

6.根据权利要求1-5任一项所述的钛靶材喷砂凹槽,其特征在于,所述第一凹槽和第二凹槽之间的距离为6.0-15.0mm。

7.根据权利要求1-6任一项所述的钛靶材喷砂凹槽,其特征在于,所述第二凹槽的宽度为6.0-11.0mm;

优选地,所述第二凹槽的深度为3.0-5.0mm。

8.根据权利要求1-7任一项所述的钛靶材的加工方法,其特征在于,所述加工方法包括:通过机加工出钛靶材的溅射面、侧面以及喷砂凹槽,然后对喷砂凹槽进行喷砂处理,得到避免异常放电的钛靶材。

9.根据权利要求8所述的加工方法,其特征在于,所述喷砂处理后喷砂凹槽的粗糙度Ra为5-7μm。

10.根据权利要求8或9所述的加工方法,其特征在于,所述喷砂处理具体方法包括:所述喷砂处理的原料为白刚玉,空气压强为0.4-0.5MPa,喷砂枪至靶材表面的距离范围为85-95mm。

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