[发明专利]一种适用于旋转PIV实验装置的减阻遮光罩

说明书

本发明公开一种适用于旋转PIV实验装置的减阻遮光罩，包括遮光罩，遮光罩安装于实验装置上，遮光罩包括驱动组件和遮光板；遮光罩包括弧形设置的主板，主板的上端面滑动连接有与主板相适配的第一副板，主板的下端面滑动连接有与主板相适配的第二副板，第二副板上贯穿开设有通光槽；第一副板和第二副板远离主板的一端分别与驱动组件传动连接，第一副板和第二副板分别与主板之间设置有止动组件；主板朝向实验组件的一侧固接有导流块。本发明在旋转PIV实验装置进行中实验模型受到更低的风阻阻力，减小了达到一定转速时所提供的电功率，可得到更高的转速上限；也对实验组件起到一定的防护作用，同时能够有效地解决实验时所产生的反光问题。

技术领域

本发明涉及旋转PIV拍摄技术领域，特别是涉及一种适用于旋转PIV实验装置的减阻遮光罩。

背景技术

PIV技术是在流场显示的基础上，利用近期高速发展的计算机图像处理技术对流场显示进行定量化测量，从而实现对流场的瞬态测量。在很长的一段时期内，对流场内复杂的瞬态流动结构以及涡量等流场特性的测量需求与日俱增，要求对整个流场进行多点同时测量，这些要求对于单点测量技术来说无法满足，而传统的流场显示技术又无法提供准确的流场量化信息，因此，伴随着计算机技术高速发展，图像处理技术有了大幅提高，向流场中散布示踪粒子的技术也日趋成熟，因此PIV技术应运而生。

PIV拍摄技术是目前研究流场机理的优选技术，其基本原理为，在流场中布撒大量示踪粒子(粒径小于10微米)跟随流场运动，把激光束经过组合透镜扩束成片光照明流场，使用数字相机拍摄流场照片，得到前后两帧粒子图像，对图像中的粒子图像进行互相关计算得到流场一个切面内的定量速度分布，进一步处理可得出流场涡量、流线以及等速度线等流场特性参数分布。

目前各种高效冷却方式被广泛应用在航空发动机涡轮叶片中，主要包括外部冷却以及内部冷却技术。而利用PIV技术拍摄并构建旋转状态下冷却结构模型的流场，了解其内部的流动机理对于优化冷却结构具有十分重要的意义。

但是，受模型材料与拍摄方法的限制，激光的照射会产生一定的反光，产生的光斑使得相机无法准确的拍摄示踪粒子的位置；在做旋转实验时，通常需要达到较高的转速来接近真实情况，但由于模型形状的差异和限制，旋转过程中会产生很大的风阻，从而不能使电机达到最高转速；而且长时间的迎风转动会产生一定的振动，对于模型结构强度和拍摄的稳定性会产生不利影响，这一难题对做高转速的PIV实验时产生了很大的阻碍。因此亟需一种适用于旋转PIV实验装置的减阻遮光罩，来解决旋转PIV实验装置中风阻对模型的影响以及反光问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种适用于旋转PIV实验装置的减阻遮光罩，以解决上述现有技术存在的问题。

为实现上述目的，本发明提供了如下方案：本发明提供一种适用于旋转PIV实验装置的减阻遮光罩，包括遮光罩，所述遮光罩安装在实验组件上，所述遮光罩包括驱动组件和遮光板；所述驱动组件与所述遮光板传动连接；

所述遮光板包括弧形设置的主板，所述主板的上端面滑动连接有与所述主板相适配的第一副板，所述主板的下端面滑动连接有与所述主板相适配的第二副板，所述第二副板上贯穿开设有通光槽；

所述第一副板和所述第二副板远离所述主板的一端分别与所述驱动组件传动连接，所述第一副板和所述第二副板分别与所述主板之间设置有止动组件；

所述主板朝向所述实验组件的一侧固接有导流块。

优选的，所述导流块远离所述实验组件的一侧为对称设置的圆弧形，圆弧形朝向所述实验组件凸出；所述导流块另一侧与所述主板内壁的弧形面贴合并固接。

优选的，所述止动组件固接在所述主板内的止动齿条，所述止动齿条可拆卸连接有定位齿，所述定位齿与开设在所述第一副板上的止动孔滑动连接，所述止动孔底端安装有电磁铁，所述定位齿朝向所述电磁铁的一端固接有永磁体，所述永磁体与所述电磁铁之间互斥设置；所述永磁体与所述电磁铁之间固接有止动弹簧。