[发明专利]一种柔性碳膜掩膜在审

专利信息
申请号: 202211280502.5 申请日: 2022-10-19
公开(公告)号: CN115480445A 公开(公告)日: 2022-12-16
发明(设计)人: 刘成元;李维维 申请(专利权)人: 安徽熙泰智能科技有限公司
主分类号: G03F1/76 分类号: G03F1/76;G03F1/62
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 代理人: 尹婷婷
地址: 241000 安徽省芜湖市芜湖长江*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 柔性 碳膜掩膜
【权利要求书】:

1.一种柔性碳膜掩膜,其特征在于,所述柔性碳膜掩膜为石墨烯、石墨、碳纳米管、碳纳米材料、金属纳米材料、金属或非金属氧化物纳米材料、有机前驱体碳化膜、碳纤维中的任意一种或多种组成的薄膜,且所述薄膜上带有掩膜图案。

2.根据权利要求1所述的柔性碳膜掩膜,其特征在于,所述柔性碳膜掩膜的厚度为1nm-100μm。

3.根据权利要求1所述的柔性碳膜掩膜,其特征在于,所述有机前驱体碳化膜为聚酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚酰胺、聚苯并咪唑、聚氨酯、聚氯乙烯、聚丙烯腈、聚苯撑乙烯、沥青、纤维素中的任意一种或多种形成的薄膜。

4.根据权利要求1所述的柔性碳膜掩膜,其特征在于,所述柔性碳膜掩膜的成膜方式包括旋涂、喷涂、刮涂、滴涂、浸涂、印刷、静电纺丝、打印、气相沉积中的任意一种或多种。

5.根据权利要求1所述的柔性碳膜掩膜,其特征在于,掩模图案通过在前驱体形成过程中引入、前驱体成膜后加工引入、碳膜形成过程中引入或柔性碳膜形成后加工引入。

6.根据权利要求1或5所述的柔性碳膜掩膜,其特征在于,掩膜图案的形成方法包括模板法、压印法、自组装法、印刷、打印、激光刻蚀、电子束刻蚀、等离子体刻蚀中的任意一种或多种。

7.根据权利要求5所述的柔性碳膜掩膜,其特征在于,掩模图案如果在前驱体形成过程中引入,可采用打印、印刷或自组织退火的方式。

8.根据权利要求1所述的柔性碳膜掩膜,其特征在于,掩模图案如果在碳膜形成过程中引入,可采用激光直写碳化的方式。

9.根据权利要求1所述的柔性碳膜掩膜,其特征在于,掩模图案如果在前驱体成膜后加工引入或柔性碳膜形成后加工引入,可采用离子束刻蚀的方式。

10.根据权利要求1所述的柔性碳膜掩膜,其特征在于,所述柔性碳膜掩膜为聚丙烯腈碳纤维柔性掩膜或碳纤维/玻璃纤维复合柔性掩模。

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