[发明专利]有机修饰无机微粒的制备方法和有机修饰无机微粒在审
| 申请号： | 202211281170.2 | 申请日： | 2022-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN115650184A | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | 阿尻雅文;野口多纪郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社超级纳米设计 |
| 主分类号： | C01B21/072 | 分类号： | C01B21/072;C01B21/068;C01B32/956 |
| 代理公司： | 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 11400 | 代理人： | 张函;方挺 |
| 地址： | 日本国宫*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 有机 修饰 无机 微粒 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种有机修饰无机微粒的制备方法，其包括如下工序：
氧化物层等形成工序，在选自无机氮化物、无机碳化物、无机硫化物和不溶性盐中的至少1种以上的原料粒子的表面形成氧化物层、羟基氧化物层和/或氢氧化物层；以及
有机修饰工序，将形成有所述氧化物层、所述羟基氧化物层和/或所述氢氧化物层的所述原料粒子在超临界、亚临界或气相的水系溶剂的反应场中进行有机修饰，得到有机修饰无机微粒。
2.一种有机修饰无机微粒，其中，在不包括氧化物微粒的无机微粒的表面形成有氧化物层、羟基氧化物层和/或氢氧化物层，且介由所述氧化物层、所述羟基氧化物层和/或所述氢氧化物层利用疏水性基团进行了有机修饰，
通过元素分析检测出选自氮、碳、硫和磷中的至少1种以上。
3.根据权利要求2所述的微粒，其中，所述氧化物层、所述羟基氧化物层和/或所述氢氧化物层的厚度为1个原子层以上且100nm以下。
4.根据权利要求2或3所述的微粒，其中，表面进行有机修饰的分子的包覆比例相对于所述微粒的表面积为1％以上。
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