[发明专利]激光装置

权利要求书

1.一种激光装置，其特征在于，所述激光装置包括增益介质、零度反射镜、第一后向反射镜、第二后向反射镜以及输出耦合镜；

所述增益介质位于所述第一后向反射镜和所述第二后向反射镜之间，所述增益介质用于产生辐射光；所述零度反射镜与所述增益介质共光轴；所述辐射光包括第一方向辐射光和第二方向辐射光；所述第一方向辐射光入射至所述第一后向反射镜；所述第二方向辐射光入射至所述零度反射镜，经过所述零度反射镜全反射后，入射至所述增益介质，再入射至所述第一后向反射镜，与所述第一方向辐射光共同形成入射光；

所述第一后向反射镜和所述零度反射镜分别位于所述增益介质的两侧，所述第一后向反射镜沿竖直方向设置，所述入射光从所述第一后向反射镜入射，经过所述第一后向反射镜后出射，得到第一出射光；所述入射光与所述第一出射光的方向相反，所述入射光与所述第一出射光相互平行且在竖直方向上相互间隔；

所述第二后向反射镜和所述零度反射镜均位于所述增益介质的同一侧，所述第二后向反射镜沿竖直方向设置，所述第一出射光从所述第二后向反射镜入射，经过所述第二后向反射镜后出射，得到第二出射光；所述第一出射光与所述第二出射光的方向相反，所述第一出射光与所述第二出射光间隔且相互平行且在竖直方向上相互间隔；

所述零度反射镜和所述输出耦合镜之间构成谐振腔；所述第二出射光入射至所述输出耦合镜，所述输出耦合镜用于透射并输出第一部分辐射光，所述输出耦合镜用于反射第二部分辐射光；所述第一后向反射镜和所述第二后向反射镜配合使用，使得所述激光装置被动补充环境参数改变导致的光学底板形变。

2.如权利要求1所述的激光装置，其特征在于，所述第一后向反射镜包括相互垂直设置的第一反射面和第二反射面；

所述第一反射面与所述增益介质的一端相对设置，使得所述入射光在所述第一反射面和所述增益介质之间传输。

3.如权利要求2所述的激光装置，其特征在于，所述第二后向反射镜包括相互垂直设置的第三反射面和第四反射面；

所述第三反射面与所述第二反射面相对设置，使得所述第一出射光在所述第三反射面和所述第二反射面之间传输；

所述第四反射面与所述输出耦合镜相对设置，使得所述第二出射光在所述第四反射面和所述输出耦合镜之间传输。

4.如权利要求1所述的激光装置，其特征在于，所述第一后向反射镜和/或第二后向反射镜包括直角棱镜。

5.如权利要求1所述的激光装置，其特征在于，所述第一后向反射镜和/或第二后向反射镜包括两个相互垂直的45度反射镜。

6.如权利要求1所述的激光装置，其特征在于，所述激光装置还包括调制器，所述调制器设置在所述输出耦合镜和所述第二后向反射镜之间，所述调制器用于调节所述第二出射光的出光方向。

7.如权利要求6所述的激光装置，其特征在于，所述调制器包括电光调制器和/或声光调制器。

8.如权利要求1所述的激光装置，其特征在于，所述激光装置还包括泵浦光源，所述泵浦光源用于提供泵浦光，所述泵浦光穿过所述零度反射镜并被所述增益介质吸收。

9.如权利要求1所述的激光装置，其特征在于，所述增益介质的材质为Yb:YAG，所述增益介质的掺杂浓度为7%～20%。

10.如权利要求9所述的激光装置，其特征在于，所述增益介质产生的所述辐射光的波长为1030nm，所述第一部分辐射光占所述第一方向辐射光的比例为1%～50%。